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Dado oficial do INPI

MÉTODO DE CONTROLE DO TEOR DE GÁLIO EM CINTILADORES DE GRANADA DE GADOLÍNIO E GÁLIO

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US2019055490

Dados do pedido

Número

112020020036

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

10/10/2019

Publicação

05/01/2021

PCT

US2019055490

Andamento no INPI

  1. Depósito10/10/19
  2. Publicação05/01/21
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 10/10/2019, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 18/04/2023. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

SIEMENS MEDICAL SOLUTIONS USA, INC.

US

Inventores

A. C. (pessoa física)

US

M. A. (pessoa física)

US

P. C. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

16/266,457 · 04/02/2019

Resumo técnico

MÉTODO DE CONTROLE DO TEOR DE GÁLIO EM CINTILADORES DE GRANADA DE GADOLÍNIO E GÁLIO.A presente invenção refere-se a um método que inclui fabricar um pó tendo uma composição de fórmula (1), M1aM2bM3cM4dO12 (1) onde O representa oxigênio, M1, M2, M3 e M4 representam um primeiro, segundo, terceiro e quarto metal que são diferentes um do outro, onde a soma de a + b + c + d é cerca de 8, onde "a" tem um valor de cerca de 2 a cerca de 3,5, "b" tem um valor de 0 a cerca de 5, "c" tem um valor de 0 a cerca de 5, "d" tem um valor de 0 a cerca de 1, onde "b" e "c", "b" e "d", ou "c" e "d" não podem ser ambos iguais a zero simultaneamente, onde M1 é um elemento de terras raras compreendendo gadolínio, ítrio, lutécio, escândio ou uma combinação dos mesmos, M2 é alumínio ou boro, M3 é gálio e M4 é um dopante; e aquecer o pó a uma temperatura de 500 a 1700°C em uma atmosfera contendo oxigênio para fabricar um cintilador cristalino.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

18/04/2023

RPI 2728

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

31/01/2023

RPI 2717

Adição na publicação

#15.35

14/12/2021

RPI 2658

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

05/01/2021

RPI 2609

Alteração de dados cadastrais

#1.1

27/10/2020

RPI 2599

Monitoramento de patentes

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