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Dado oficial do INPI

ESTAÇÃO PARA TRATAMENTO LOCALIZADO DE SUPERFÍCIE DE UMA PEÇA INDUSTRIAL A SER TRATADA, LINHA DE PRODUÇÃO PARA PEÇAS INDUSTRIAIS, MÉTODO PARA TRATAMENTO LOCALIZADO DE SUPERFÍCIE DE UMA PEÇA INDUSTRIAL A SER TRATADA E USO DO MÉTODO PARA TRATAMENTO LOCALIZADO DE SUPERFÍCIE DE UMA PEÇA INDUSTRIAL A SER TRATADA

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · EP2019051663

Dados do pedido

Número

112020017330

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

23/01/2019

Publicação

15/12/2020

PCT

EP2019051663

Andamento no INPI

  1. Depósito23/01/19
  2. Publicação15/12/20
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 23/05/2023. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

COCKERILL MAINTENANCE & INGENIERIE S.A.

BE

I. E. (pessoa física)

FR

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Inventores

D. G. (pessoa física)

FR

L. V. (pessoa física)

FR

Dados técnicos

Prioridades unionistas

EP

18158520.9 · 26/02/2018

Resumo técnico

Estação (1) para o tratamento localizado de superfície de um componente industrial (2) a ser tratado, compreendendo um sistema (6) para a aplicação de um vácuo na câmara de tratamento (5) e o circuito de alimentação e drenagem (22, 23) permitindo abastecer, ou drenar, a câmara, por meio da sucção de um fluido de tratamento através do circuito de alimentação e drenagem (22, 23) a partir das cubas de armazenamento (3A, 3B, 3C, 3D, ?) até a câmara de tratamento (5) quando tal vácuo é aplicado, ou por meio do retorno do fluido de tratamento às cubas de armazenamento (3A, 3B, 3C, 3D,?) pela força da gravidade quando o circuito de alimentação e drenagem (22, 23) é configurado com a pressão atmosférica. Estação (1) para o tratamento localizado de superfície de um componente industrial (2) a ser tratado, compreendendo um sistema (6) para a aplicação de um vácuo na câmara de tratamento (5) e o circuito de alimentação e drenagem (22, 23) permitindo abastecer, ou drenar, a câmara, por meio da sucção de um fluido de tratamento através do circuito de alimentação e drenagem (22, 23) a partir das cubas de armazenamento (3A, 3B, 3C, 3D, ?) até a câmara de tratamento (5) quando tal vácuo é aplicado, ou por meio do retorno do fluido de tratamento às cubas de armazenamento (3A, 3B, 3C, 3D,?) pela força da gravidade quando o circuito de alimentação e drenagem (22, 23) é configurado com a pressão atmosférica.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

23/05/2023

RPI 2733

Parecer de pré-exame

#6.23

14/02/2023

RPI 2719

8.7

15/02/2022

RPI 2667

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 3ª anuidade.

14/12/2021

RPI 2658

Adição na publicação

#15.35

07/12/2021

RPI 2657

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

15/12/2020

RPI 2606

Alteração de dados cadastrais

#1.1

06/10/2020

RPI 2596

Monitoramento de patentes

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