Concessão da patente
#16.1
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 27/08/2018, observadas as condições legais
25/06/2024
RPI 2790
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Dado oficial do INPI
DESIGN DE CÉLULA DE ALTO DESEMPENHO EM UMA TECNOLOGIA COM ROTEAMENTO DE METAL DE ALTA DENSIDADE
ConcedidaPatente de InvençãoPCT · US2018048076
Dados do pedido
Número
112020005182Tipo
Patente de Invenção
Depósito
27/08/2018
Publicação
15/09/2020
PCT
US2018048076 Andamento no INPI
- Depósito27/08/18
- Publicação15/09/20
- Exame
- Deferimento07/05/24
- Concessão25/06/24
- Em vigor27/08/38
Patente concedida em 25/06/2024 e em vigor até 27/08/2038. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:27/08/2038
Última movimentação publicada pelo INPI: 25/06/2024. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Q. I. (pessoa física)
US
Inventores
F. V. (pessoa física)
US
H. L. (pessoa física)
US
R. H. (pessoa física)
US
V. B. (pessoa física)
US
X. C. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
15/707,807 · 18/09/2017
Resumo técnico
Em certos aspectos, uma pastilha semicondutora inclui uma primeira região dopada, uma segunda região dopada e uma interconexão formada de uma primeira camada de meio de linha (MOL), em que a interconexão eletricamente acopla a primeira região dopada à segunda região dopada. A pastilha semicondutora inclui também uma primeira linha de metal formada de uma primeira camada de metal de interconexão e uma primeira via eletricamente acoplando a interconexão à primeira linha de metal.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Deferimento
#9.1
07/05/2024
RPI 2783
Parecer de pré-exame
#6.23
10/10/2023
RPI 2753
Adição na publicação
#15.35
23/11/2021
RPI 2655
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
15/09/2020
RPI 2593
Alteração de dados cadastrais
#1.1
08/09/2020
RPI 2592
Monitoramento de patentes
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