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Dado oficial do INPI

REATOR RESISTENTE A PRESSÃO E TEMPERATURA E PROCESSO PARA A PRODUÇÃO DE GÁS DE SÍNTESE

ConcedidaPatente de InvençãoPCT · EP2018072676

Dados do pedido

Número

112020004350

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

22/08/2018

Publicação

06/10/2020

PCT

EP2018072676

Andamento no INPI

  1. Depósito22/08/18
  2. Publicação06/10/20
  3. Exame
  4. Deferimento04/07/23
  5. Concessão12/09/23
  6. Em vigor22/08/38

Patente concedida em 12/09/2023 e em vigor até 22/08/2038. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:22/08/2038

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Última movimentação publicada pelo INPI: 12/09/2023. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

INERATEC GMBH

DE

KARLSRUHER INSTITUT FÜR TECHNOLOGIE

DE

Inventores

P. P. (pessoa física)

DE

P. P. (pessoa física)

DE

P. E. (pessoa física)

DE

R. D. (pessoa física)

DE

T. B. (pessoa física)

DE

Dados técnicos

Prioridades unionistas

DE

102017120814.3 · 08/09/2017

Resumo técnico

A presente invenção se refere a um reator resistente à pressão e à temperatura para a produção de gás de síntese em uma conversão reversa de CO, no qual ocorre uma reação pressurizada de gases contendo CO2 com auxílio de hidrogênio em uma mistura de gás de síntese (CO e H2), assim como um método para a produção de uma mistura de gás de síntese com esse reator. Figura 1

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 22/08/2018, observadas as condições legais

12/09/2023

RPI 2749

Deferimento

#9.1

04/07/2023

RPI 2739

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

07/02/2023

RPI 2718

Parecer de pré-exame

#6.23

06/09/2022

RPI 2696

Transferência deferida

#25.1

17/05/2022

RPI 2680

Adição na publicação

#15.35

23/11/2021

RPI 2655

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

06/10/2020

RPI 2596

Alteração de dados cadastrais

#1.1

17/03/2020

RPI 2567

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