Concessão da patente
#16.1
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 20/07/2018, observadas as condições legais
24/04/2024
RPI 2781
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Dado oficial do INPI
SISTEMAS E MÉTODOS PARA CONTROLAR O NIVELAMENTO DE UM SUBSTRATO DE METAL COM LAMINAÇÃO DE BAIXA PRESSÃO
ConcedidaPatente de InvençãoPCT · US2018043049
Dados do pedido
Número
112020001010Tipo
Patente de Invenção
Depósito
20/07/2018
Publicação
15/09/2020
PCT
US2018043049 Andamento no INPI
- Depósito20/07/18
- Publicação15/09/20
- Exame
- Deferimento06/02/24
- Concessão24/04/24
- Em vigor20/07/38
Patente concedida em 24/04/2024 e em vigor até 20/07/2038. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:20/07/2038
Última movimentação publicada pelo INPI: 24/04/2024. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
NOVELIS INC.
US
Inventores
A. H. (pessoa física)
CA
D. G. (pessoa física)
US
J. G. (pessoa física)
US
M. S. (pessoa física)
US
S. M. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
62/535,341 · 21/07/2017
US
62/535,345 · 21/07/2017
US
62/535,349 · 21/07/2017
US
62/551,292 · 29/08/2017
US
62/551,296 · 29/08/2017
US
62/551,298 · 29/08/2017
Resumo técnico
A presente invenção refere-se a um sistema de controle de nivelamento que inclui um suporte de trabalho de uma linha de acabamento, uma pluralidade de atuadores, um dispositivo de medição de nivelamento e um controlador. O suporte de trabalho inclui um par de rolos de trabalho alinhados verticalmente. Um primeiro rolo de trabalho do par de rolos de trabalho inclui uma pluralidade de zonas de controle de nivelamento configuradas para aplicar uma pressão localizada a uma região correspondente em um substrato. Cada atuador corresponde a uma dentre a pluralidade de zonas de controle de nivelamento. O dispositivo de medição de nivelamento está configurado para medir um perfil de nivelamento real do substrato. O controlador está configurado para ajustar a pluralidade de atuadores de modo que as pressões localizadas modifiquem o perfil de nivelamento real para atingir o perfil de nivelamento desejado na saída do suporte. A espessura e o comprimento do substrato permanecem substancialmente constantes quando o substrato sai do suporte de trabalho.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Deferimento
#9.1
06/02/2024
RPI 2770
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
07/11/2023
RPI 2757
Parecer de pré-exame
#6.23
13/09/2022
RPI 2697
Adição na publicação
#15.35
23/11/2021
RPI 2655
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
15/09/2020
RPI 2593
Exigências diversas
#1.5
É necessário apresentar cessão das prioridades reivindicadas com as seguintes assinaturas:. 62/535,341 - Mehdi Shafiei; John A. Hunter; Peter Knelsen. 62/535,345 - Mehdi Shafiei, Andrew Hobbis; David Anthony Gaensbauer. 62/535,349 - Mehdi Shafiei; David Anthony Gaensbauer; Jeffrey Geho. 62/551,292 - Mehdi Shafiei; John A. Hunter; Peter Knelsen. 62/551,296 - Mehdi Shafiei; Andrew Hobbis; David Anthony Gaensbauer; Jeffrey Geho. 62/551,298 - Mehdi Shafiei; David Anthony Gaensbauer; Jeffrey Geho; Andrew Hobbis
21/07/2020
RPI 2585
Alteração de dados cadastrais
#1.1
28/01/2020
RPI 2560
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