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Dado oficial do INPI

PROCESSO E INSTALAÇÃO DE ACABAMENTO DE UREIA E DE TRATAMENTO DE GÁS EFLUENTE

ConcedidaPatente de InvençãoPCT · NL2018050484

Dados do pedido

Número

112020000820

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

13/07/2018

Publicação

21/07/2020

PCT

NL2018050484

Andamento no INPI

  1. Depósito13/07/18
  2. Publicação21/07/20
  3. Exame
  4. Deferimento15/03/22
  5. Concessão17/05/22
  6. Em vigor13/07/38

Patente concedida em 17/05/2022 e em vigor até 13/07/2038. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:13/07/2038

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Última movimentação publicada pelo INPI: 17/05/2022. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

STAMICARBON B.V.

NL

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Inventores

J. M. (pessoa física)

NL

J. G. (pessoa física)

NL

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

EP

17181412.2 · 14/07/2017

Resumo técnico

A invenção se refere a um processo de acabamento para material compreendendo ureia, uma instalação para acabamento de material compreendendo ureia, um método de modificação de uma instalação existente, e um uso. São revelados métodos para evitar a obstrução do conduto para o gás efluente entre a seção de acabamento e a seção de tratamento.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 13/07/2018, observadas as condições legais

17/05/2022

RPI 2680

Deferimento

#9.1

15/03/2022

RPI 2671

Adição na publicação

#15.35

03/11/2021

RPI 2652

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

05/10/2021

RPI 2648

28.30

Concedido o trâmite prioritário requerido através da petição nº 870210029918, de 31/03/2021, haja vista que atende ao disposto nos artigos 3º e 4º da Portaria INPI PR nº 404, de 21/12/2020, publicada na RPI 2608, de 29/12/2020.

20/04/2021

RPI 2624

28.10.32

13/04/2021

RPI 2623

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

21/07/2020

RPI 2585

Alteração de dados cadastrais

#1.1

28/01/2020

RPI 2560

Monitoramento de patentes

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