Adição na publicação
#15.35
19/10/2021
RPI 2650
Dados do pedido
Número
112019017244Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2018019364 Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 23/02/2018, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 19/10/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
U. W. (pessoa física)
US
Inventores
B. N. (pessoa física)
US
R. G. (pessoa física)
US
U. S. (pessoa física)
US
Prioridades unionistas
US
62/462,779 · 23/02/2017
Resumo técnico
Trata-se de um método exemplificativo que inclui direcionar gás, por meio de uma ou mais primeiras válvulas, de dentro de um eletrodo interno a uma região de aceleração entre o eletrodo interno e um eletrodo externo que circunda substancialmente o eletrodo interno, direcionar gás, por meio de duas ou mais segundas válvulas, de fora do eletrodo externo para a região de aceleração, e aplicar, por meio de uma fonte de alimentação, uma tensão entre o eletrodo interno e o eletrodo externo, convertendo assim pelo menos uma porção do gás direcionado em um plasma que tem um corte transversal substancialmente anular, sendo que o plasma flui axialmente dentro da região de aceleração a uma primeira extremidade do eletrodo interno e uma primeira extremidade do eletrodo externo e, em seguida, estabelece um plasma de Z-pinch que flui entre a primeira extremidade do eletrodo externo e a primeira extremidade do eletrodo interno. Sistemas e métodos de confinamento de plasma relacionados são também revelados no presente documento.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#15.35
19/10/2021
RPI 2650
#11.1.1
24/08/2021
RPI 2642
#11.1
08/06/2021
RPI 2631
#1.3
14/04/2020
RPI 2571
#1.1
27/08/2019
RPI 2538
Do mesmo titular
Da mesma categoria
Monitoramento de patentes
Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.