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Dado oficial do INPI

DISPOSITIVO DE REVESTIMENTO POR POLIMERIZAÇÃO DE PLASMA.

ExtintaPatente de InvençãoPCT · CN2017081773

Dados do pedido

Número

112019005796

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

25/04/2017

Publicação

02/07/2019

PCT

CN2017081773

Andamento no INPI

  1. Depósito25/04/17
  2. Publicação02/07/19
  3. Exame
  4. Deferimento06/12/22
  5. Concessão10/01/23
  6. Extinto07/07/26

Patente concedida em 10/01/2023 e depois extinta em 07/07/2026. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 07/07/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

JIANGSU FAVORED NANOTECHNOLOGY CO., LTD.

CN

Inventores

J. Z. (pessoa física)

CN

Dados técnicos

Prioridades unionistas

CN

201611076904.8 · 30/11/2016

Resumo técnico

É provido um dispositivo para formar um revestimento por plasma polimerizado. No dispositivo, seções transversais de uma parede lateral interna de uma câmara de vácuo (1) são círculos possuindo o mesmo diâmetro ou polígonos regulares possuindo lados do mesmo comprimento, os polígonos regulares possuindo pelo menos seis lados. Um eletrodo poroso (2) é instalado em uma parede interna da câmara de vácuo (1). O eletrodo poroso (2) é conectado a uma fonte de alimentação de alta frequência (3). Pelo menos duas cavidades de descarga vedadas (4) estão arranjadas em uma parede externa da câmara de vácuo (1). Pelo menos duas grades metálicas (5) são providas em uma região onde a cavidade de descarga (4) está conectada à parede interna da câmara de vácuo (1). Um tubo de coleta de gás de exaustão (11) está verticalmente instalado em um eixo geométrico central na câmara de vácuo (1). É provida uma prateleira de rotação (12) no interior da câmara de vácuo (1). Um eixo geométrico de rotação da prateleira de rotação (12) é coaxial com o eixo geométrico central da câmara de vácuo (1). Um substrato (15) a ser tratado é colocado sobre a prateleira de rotação (12). O dispositivo usa uma câmara de vácuo com uma estrutura simétrica em relação a um eixo geométrico central da mesma para manter uma concentração estável de uma espécie ativa em uma polimerização espacial. O dispositivo provê uma câmara de vácuo de grande volume, permite processamento de grandes lotes em uma única operação, e possui alta eficiência de processamento, baixo custo e boa uniformidade de produtos processados em batelada.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2877 de 24-02-2026 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

07/07/2026

RPI 2896

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 9ª anuidade.

24/02/2026

RPI 2877

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 25/04/2017, observadas as condições legais

10/01/2023

RPI 2714

Deferimento

#9.1

06/12/2022

RPI 2709

Republicação - classificação IPC

#15.11

As Classificações Anteriores eram: H05H 7/14 , B05B 15/12

22/11/2022

RPI 2707

Parecer de pré-exame

#6.23

14/06/2022

RPI 2684

Adição na publicação

#15.35

05/10/2021

RPI 2648

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

02/07/2019

RPI 2530

Alteração de dados cadastrais

#1.1

02/04/2019

RPI 2517

Monitoramento de patentes

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