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Dado oficial do INPI

PROCESSO DE PADRONIZAÇÃO QUÁDRUPLO AUTO-ALINHADO NOVO PARA PASSO DE ALETA ABAIXO DE 20NM

Em AnálisePatente de InvençãoPCT · US2017045966

Dados do pedido

Número

112019005093

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

08/08/2017

Publicação

04/06/2019

PCT

US2017045966

Andamento no INPI

Em recurso
  1. Depósito08/08/17
  2. Publicação04/06/19
  3. Exame
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

O pedido está em fase de recurso: o INPI ainda vai rever a decisão.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 16/01/2024. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Q. I. (pessoa física)

US

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Inventores

C. Y. (pessoa física)

US

D. Y. (pessoa física)

US

J. X. (pessoa física)

US

K. R. (pessoa física)

US

S. S. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

15/271,043 · 20/09/2016

Resumo técnico

Um método de produzir um dispositivo FinFET com passo de aleta menor que 20 nm é apresentado. De acordo com algumas modalidades, aletas são depositadas em espaçadores de parede lateral, que eles próprios são depositados em mandris. Os mandris podem ser formados por processos litográficos enquanto as aletas e espaçadores de parede lateral formados por tecnologias de deposição.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Petição de recurso

#12.2

Recurso: 870240001145 - 5/1/2024

16/01/2024

RPI 2767

Indeferimento

#9.2

05/12/2023

RPI 2761

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

06/06/2023

RPI 2735

Parecer de pré-exame

#6.23

12/07/2022

RPI 2688

Adição na publicação

#15.35

21/09/2021

RPI 2646

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

04/06/2019

RPI 2526

Alteração de dados cadastrais

#1.1

26/03/2019

RPI 2516

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