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Dado oficial do INPI

REDUÇÃO DO TEOR DE MONÔMERO RESIDUAL EM COPOLÍMEROS DE ESTIRENO E VINILPIRIDINA

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · US2017048984

Dados do pedido

Número

112019002518

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

29/08/2017

Publicação

14/05/2019

PCT

US2017048984

Andamento no INPI

  1. Depósito29/08/17
  2. Publicação14/05/19
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 21/09/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

NOVUS INTERNATIONAL, INC.

US

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Inventores

G. A. (pessoa física)

US

J. H. (pessoa física)

US

R. E. (pessoa física)

US

X. W. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

62/381,425 · 30/08/2016

US

62/443,544 · 06/01/2017

Resumo técnico

Copolímeros de estireno e vinilpiridina com níveis de monômeros residuais inferiores a cerca de 1000 partes por bilhão e processos para preparar os referidos copolímeros.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Adição na publicação

#15.35

21/09/2021

RPI 2646

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2594 de 24-09-2020 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

12/01/2021

RPI 2610

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 3ª anuidade.

24/09/2020

RPI 2594

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

14/05/2019

RPI 2523

Alteração de dados cadastrais

#1.1

19/03/2019

RPI 2515

Monitoramento de patentes

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