Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
27/06/2023
RPI 2738
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Dado oficial do INPI
ESTRUTURAS DE DISPOSITIVO DE CIRCUITO INTEGRADO E TÉCNICAS DE FABRICAÇÃO DE FRENTE E VERSO
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US2017048752
Dados do pedido
Número
112019001313Tipo
Patente de Invenção
Depósito
25/08/2017
Publicação
30/04/2019
PCT
US2017048752 Andamento no INPI
- Depósito25/08/17
- Publicação30/04/19
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 27/06/2023. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
I. C. (pessoa física)
US
Inventores
B. B. (pessoa física)
US
D. I. (pessoa física)
US
K. O. (pessoa física)
US
K. J. (pessoa física)
US
P. M. (pessoa física)
US
P. F. (pessoa física)
US
R. M. (pessoa física)
US
S. L. (pessoa física)
US
V. R. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
62/380,316 · 26/08/2016
US
PCT/US2016/068564 · 23/12/2016
US
PCT/US2017/048475 · 24/08/2017
Resumo técnico
Arquiteturas de células de circuito integrado, incluindo tanto estruturas frontais como traseiras. Um ou mais de entre implante traseiro, deposição de semicondutor, deposição de dielétrico, metalização, padronização de deposição dielétrica, metalização, padronização de película e transferência de camada de nível de bolacha é integrado com o processamento frontal. Esse processamento de frente e verso pode implicar a revelação de um lado traseiro de estruturas fabricadas a partir de um lado frontal de um substrato. Conjuntos de substrato hospedeiro-dador podem ser construídos para apoiar e proteger estruturas frontais durante o processamento traseiro. Dispositivos frontais, tais como FETs, podem ser modificados e/ou interligados durante o processamento traseiro. Dispositivos traseiros, tais como FETs, podem ser integrados a dispositivos frontais para expandir a funcionalidade do dispositivo, melhorar o desempenho ou aumentar a densidade do dispositivo.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
24/01/2023
RPI 2716
Parecer de pré-exame
#6.23
13/09/2022
RPI 2697
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
30/04/2019
RPI 2521
Alteração de dados cadastrais
#1.1
05/02/2019
RPI 2509
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