Adição na publicação
#15.35
08/09/2021
RPI 2644
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Dado oficial do INPI
SUBSTRATO DE VIDRO ANTIRREFLETIVO E MÉTODO DE FABRICAÇÃO DO MESMO
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · EP2017055854
Dados do pedido
Número
112018070872Tipo
Patente de Invenção
Depósito
13/03/2017
Publicação
05/02/2019
PCT
EP2017055854 Andamento no INPI
- Depósito13/03/17
- Publicação05/02/19
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 13/03/2017, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 08/09/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
AGC GLASS COMPANY NORTH AMERICA
US
A. E. (pessoa física)
BE
ASAHI GLASS CO LTD
JP
Q. I. (pessoa física)
FR
Inventores
B. N. (pessoa física)
BE
D. B. (pessoa física)
FR
P. B. (pessoa física)
BE
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
EP
16164910.8 · 12/04/2016
Resumo técnico
A invenção se refere a um método para a fabricação de substratos de vidro antirrefletivos por implantação iônica, compreendendo a seleção de uma fonte de gás de N2 ou O2, a ionização da fonte de gás de modo a formar uma mistura de íons de carga simples e de carga múltipla de N ou O, formando um feixe de íons de carga simples e de carga múltipla de N ou O, através de aceleração com uma voltagem de aceleração A compreendida entre 13 kV e 40 kV e definindo a dosagem iônica para um valor compreendido entre 5,56 x 1014 x A/kV + 4,78 x 1016 íons/cm² e -2,22 x 1016 x A/kV + 1,09 x 1018 íons/cm². A invenção se refere ainda a substratos de vidro antirrefletivos compreendendo uma área tratada por implantação iônica com uma mistura de íons de carga simples e de carga múltipla de acordo com esse método.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
11/08/2020
RPI 2588
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
31/03/2020
RPI 2569
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
05/02/2019
RPI 2509
Alteração de dados cadastrais
#1.1
23/10/2018
RPI 2494
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