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Dado oficial do INPI

REATOR DE PLASMA E PROCESSO PARA ALIMENTAÇÃO DE FLUXO DE COMPOSTOS REAGENTES A UM REATOR E DESCARGA DE PLASMA

ConcedidaPatente de InvençãoPCT · US2017014907 Documento oficial disponível

Dados do pedido

Número

112018015196

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

25/01/2017

Publicação

26/12/2018

PCT

US2017014907

Carta-patente disponível

Temos o documento oficial completo deste processo, publicado pelo INPI.

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Andamento no INPI

  1. Depósito25/01/17
  2. Publicação26/12/18
  3. Exame
  4. Deferimento06/09/22
  5. Concessão22/11/22
  6. Em vigor25/01/37

Patente concedida em 22/11/2022 e em vigor até 25/01/2037. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:25/01/2037

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Última movimentação publicada pelo INPI: 22/11/2022. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

R. M. (pessoa física)

US

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Inventores

J. Z. (pessoa física)

US

S. D. (pessoa física)

US

X. W. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

62/286,715 · 25/01/2016

Resumo técnico

Processo que compreende a alimentação de fluxo de compostos reagentes a um reator e descarga de plasma líquido no fluxo de reagentes no reator, em que o plasma inicia ou acelera reação dos compostos reagentes para formar uma composição de produto. O reator pode compreender uma ou mais câmaras, um eletrodo de alta tensão posicionado em primeira parte de uma ou mais câmaras, um eletrodo de solo posicionado em segunda parte de uma ou mais câmaras e uma placa dielétrica entre o eletrodo de solo e o eletrodo de alta tensão que compreende aberturas através das quais o fluxo de reagentes pode passar da primeira parte para a segunda parte ou da segunda parte para a primeira parte. A descarga do plasma pode incluir o fornecimento de energia elétrica para o eletrodo de alta tensão, de tal forma que o plasma seja descarregado quando o fluxo de reagentes flui através das aberturas.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 25/01/2017, observadas as condições legais

22/11/2022

RPI 2707

Deferimento

#9.1

06/09/2022

RPI 2696

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

18/01/2022

RPI 2663

Adição na publicação

#15.35

24/08/2021

RPI 2642

Parecer de pré-exame

#6.23

13/07/2021

RPI 2636

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

26/12/2018

RPI 2503

Alteração de dados cadastrais

#1.1

07/08/2018

RPI 2483

Monitoramento de patentes

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