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Dado oficial do INPI

DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES COM PORTAS DE CAMPO MAIS LARGAS PARA RESISTÊNCIA DE PORTA REDUZIDA

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US2016068883

Dados do pedido

Número

112018013225

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

28/12/2016

Publicação

04/12/2018

PCT

US2016068883

Andamento no INPI

  1. Depósito28/12/16
  2. Publicação04/12/18
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 28/12/2016, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 30/06/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Q. I. (pessoa física)

US

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Inventores

H. Y. (pessoa física)

US

X. C. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

15/189,325 · 22/06/2016

US

62/272,248 · 29/12/2015

Resumo técnico

A presente invenção refere-se a dispositivos semicondutores com portas de campo mais largas para resistência de porta reduzida. Em um aspecto, proporciona-se um dispositivo semicondutor que emprega uma porta. A porta é uma linha condutora disposta acima do dispositivo semicondutor para formar transistores correspondentes a regiões semicondutoras ativas. Cada região semicondutora ativa tem uma região de canal correspondente. As porções da porta disposta sobre cada região de canal são portas ativas, e porções não dispostas sobre a região de canal, porém que estão dispostas sobre regiões de óxido de campo, são portas de campo. Um diferencial de tensão entre cada porta ativa e uma fonte de cada transístor correspondente faz com que uma corrente flua em uma região de canal correspondente quando o diferencial de tensão exceder uma tensão limite. A largura de cada porta de campo é uma largura maior do que cada porta ativa. A largura maior das portas de campo resulta em resistência de porta reduzida em comparação com dispositivos com portas de campo mais estreitas.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

30/06/2020

RPI 2582

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

04/02/2020

RPI 2561

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

04/12/2018

RPI 2500

Alteração de dados cadastrais

#1.1

10/07/2018

RPI 2479

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