Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
30/06/2020
RPI 2582
Dados do pedido
Número
112018013225Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2016068883 Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 28/12/2016, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 30/06/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Q. I. (pessoa física)
US
Inventores
H. Y. (pessoa física)
US
X. C. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
15/189,325 · 22/06/2016
US
62/272,248 · 29/12/2015
Resumo técnico
A presente invenção refere-se a dispositivos semicondutores com portas de campo mais largas para resistência de porta reduzida. Em um aspecto, proporciona-se um dispositivo semicondutor que emprega uma porta. A porta é uma linha condutora disposta acima do dispositivo semicondutor para formar transistores correspondentes a regiões semicondutoras ativas. Cada região semicondutora ativa tem uma região de canal correspondente. As porções da porta disposta sobre cada região de canal são portas ativas, e porções não dispostas sobre a região de canal, porém que estão dispostas sobre regiões de óxido de campo, são portas de campo. Um diferencial de tensão entre cada porta ativa e uma fonte de cada transístor correspondente faz com que uma corrente flua em uma região de canal correspondente quando o diferencial de tensão exceder uma tensão limite. A largura de cada porta de campo é uma largura maior do que cada porta ativa. A largura maior das portas de campo resulta em resistência de porta reduzida em comparação com dispositivos com portas de campo mais estreitas.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.1.1
30/06/2020
RPI 2582
#11.1
04/02/2020
RPI 2561
#1.3
04/12/2018
RPI 2500
#1.1
10/07/2018
RPI 2479
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