Dados do pedido
Número
112018006527Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2016054490 Patente concedida em 17/11/2020 e depois extinta em 27/02/2024. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 27/02/2024. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
J. C. (pessoa física)
US
L. J. (pessoa física)
US
NANOVAPOR INC.
US
Inventores
J. C. (pessoa física)
US
L. J. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
62/235,223 · 30/09/2015
Resumo técnico
METODOS E COMPOSIÇOES PARA A SUPRESSAO DE VAPOR A presente invenção refere-se à supressão de vapor dos líquidos através da colocação de uma camada de tensoativo sobre as superfícies dos líquidos para os tensoativos tendo uma densidade maior do que o líquido e independentemente de problemas de espalhabilidade de tensão superficial, e composições compreendendo os tensoativos na forma aerificada.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#21.6
Extinção da patente por falta de pagamento da retribuição anual, por pagamento da retribuição anual fora do prazo ou por não cumprimento de exigência de complementação de pagamento da retribuição anua
27/02/2024
RPI 2773
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 29/09/2016, observadas as condições legais
17/11/2020
RPI 2602
#9.1
25/08/2020
RPI 2590
#6.21
24/03/2020
RPI 2568
#6.6.1
24/12/2019
RPI 2555
#4.3
17/12/2019
RPI 2554
#11.1
15/10/2019
RPI 2545
#1.3
11/12/2018
RPI 2501
#1.1
24/07/2018
RPI 2481
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