(11) 98705-3426
TrademarkIQ íconeTrademarkIQ
Voltar para busca
Dado oficial do INPI

SUBSTRATO DE POLÍMERO COM CAMADA DE REVESTIMENTO DURO, E, MÉTODO PARA PRODUZIR O SUBSTRATO DE POLÍMERO COM CAMADA DE REVESTIMENTO DURO.

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · JP2016078127

Dados do pedido

Número

112018005528

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

23/09/2016

Publicação

04/12/2018

PCT

JP2016078127

Andamento no INPI

  1. Depósito23/09/16
  2. Publicação04/12/18
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

Falar com um especialista

Última movimentação publicada pelo INPI: 12/04/2022. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

TEIJIN LIMITED

JP

TSUKISHIMA KIKAI CO., LTD.

JP

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

H. K. (pessoa física)

JP

M. N. (pessoa física)

JP

S. O. (pessoa física)

JP

T. S. (pessoa física)

JP

T. K. (pessoa física)

JP

T. E. (pessoa física)

JP

Y. M. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Prioridades unionistas

JP

2015-189003 · 25/09/2015

Resumo técnico

A presente invenção fornece um substrato de polímero com uma camada de revestimento duro exibindo excelente resistência ambiental e resistência ao desgaste. Um substrato de polímero (60) tem de 1 a 20 mm de espessura e uma camada de revestimento duro (70, 80) sobre a superfície do mesmo compreende: uma subcamada curada (70) com uma espessura de 1 a 20 mm, e incluindo 10 a 90 partes em peso de um acrilato multifuncional, e 90 a 10 partes em peso de partículas finas de óxido inorgânico e/ou um condensado hidrolítico de composto de silício; e uma camada de óxido de silício (80) que está em contato direto com a subcamada curada, é formada pela PE-CVD com um composto de organossilício como o material iniciador, e satisfaz todas as seguintes condições de (a) a (c): (a) a espessura de película da camada de óxido de silício é de 3,5 a 9,0 mm; (b) a profundidade de indentação máxima da superfície da camada de óxido de silício pela medição da nanoindentação em uma carga máxima de l mN é de 150 nm ou menos; e (c) a razão de compressão limite K da camada de óxido de silício é de no máximo 0,975 em um teste de flexão de 3 pontos do substrato de polímero com uma camada de revestimento duro tendo sido submetida à deformação por indentação que faz com que a superfície sobre a qual a camada de óxido de silício é depositada em camada seja indentada.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

12/04/2022

RPI 2675

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

28/12/2021

RPI 2660

Exigência preliminar

#6.21

10/03/2020

RPI 2566

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

04/12/2018

RPI 2500

Exigências diversas

#1.5

02/10/2018

RPI 2491

Alteração de dados cadastrais

#1.1

03/04/2018

RPI 2465

Relacionados

Do mesmo titular

Monitoramento de patentes

Acompanhe esta patente em tempo real.

Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.