Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
24/09/2019
RPI 2542
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Dado oficial do INPI
MÉTODO E APARELHO PARA REDUÇÃO DE RENDIMENTO, E, SUPERFÍCIE TRATADA A LASER
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · GB2016051909
Dados do pedido
Número
112017027975Tipo
Patente de Invenção
Depósito
24/06/2016
Publicação
28/08/2018
PCT
GB2016051909 Andamento no INPI
- Depósito24/06/16
- Publicação28/08/18
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 24/06/2016, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 24/09/2019. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
U. D. (pessoa física)
GB
Inventores
A. A. (pessoa física)
GB
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
GB
1511153.7 · 24/06/2015
GB
1511154.5 · 24/06/2015
GB
1517232.3 · 30/09/2015
GB
151723.6 · 30/09/2015
GB
1603991.9 · 08/03/2016
Resumo técnico
A método para redução de rendimento de fotoelétron (PEY) e/ou rendimento de elétron secundário (SEY) de uma superfície de um alvo (10), compreende aplicar radiação a laser à superfície do alvo (10) para produzir um arranjo periódico de estruturas na superfície, em que a radiação a laser compreende radiação a laser pulsada compreendendo uma série de pulsos de laser e a densidade de potência dos pulsos está em uma faixa de 0,01 TW/cm2 a 3 TW/cm2, opcionalmente 0,1 TW/cm2 a 3 TW/cm2.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
09/07/2019
RPI 2531
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
28/08/2018
RPI 2486
Alteração de dados cadastrais
#1.1
03/04/2018
RPI 2465
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