Adição na publicação
#15.35
17/08/2021
RPI 2641
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Dado oficial do INPI
DISPOSITIVO OPTOELETRÔNICO E MÉTODO DE PRODUÇÃO DO MESMO
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US2016021178
Dados do pedido
Número
112017019432Tipo
Patente de Invenção
Depósito
07/03/2016
Publicação
24/04/2018
PCT
US2016021178 Andamento no INPI
- Depósito07/03/16
- Publicação24/04/18
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 07/03/2016, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 17/08/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
VITRO, S.A.B. DE C.V.
MX
Inventores
B. K. (pessoa física)
US
C. H. (pessoa física)
US
G. N. (pessoa física)
US
J. M. (pessoa física)
US
K. K. (pessoa física)
US
Z. M. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
14/963,736 · 09/12/2015
US
14/963,778 · 09/12/2015
US
14/963,799 · 09/12/2015
US
14/963,832 · 09/12/2015
US
62/131,938 · 12/03/2015
Resumo técnico
DISPOSITIVO OPTOELETRÔNICO E MÉTODO DE PRODUÇÃO DO MESMO. Trata-se de um dispositivo optoeletrônico (10) que inclui um primeiro substrato (12) que tem uma primeira superfície (14) e uma segunda superfície (16); uma subcamada (18) situada sobre a segunda superfície (16); uma primeira camada condutora (20) sobre a subcamada (18); uma sobrecamada (22) sobre a primeira camada condutora (20); uma camada semicondutora (24) sobre a primeira camada condutora (20); e uma segunda camada condutora (26) sobre a camada semicondutora (24). A primeira camada condutora (20) inclui um óxido condutor e pelo menos um dopante selecionado a partir do grupo que consiste em tungstênio, molibdênio, nióbio e flúor; e/ou a sobrecamada (22) inclui uma camada de tampão (42) que inclui óxido de estanho e pelo menos um material selecionado a partir do grupo que consiste em zinco, índio, gálio e magnésio.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
11/06/2019
RPI 2527
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
26/03/2019
RPI 2516
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
24/04/2018
RPI 2468
Alteração de dados cadastrais
#1.1
19/09/2017
RPI 2437
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