Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
13/10/2021
RPI 2649
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Dado oficial do INPI
DIÉSTERES RAMIFICADOS PARA O USO COMO UMA MATÉRIA-PRIMA E EM APLICAÇÕES LUBRIFICANTES
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US2015017498
Dados do pedido
Número
112016020520Tipo
Patente de Invenção
Depósito
25/02/2015
Publicação
15/08/2017
PCT
US2015017498 Andamento no INPI
- Depósito25/02/15
- Publicação15/08/17
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 13/10/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
ELEVANCE RENEWABLE SCIENCES, INC
US
WILMAR TRADING PTE LTD
SG
Inventores
J. B. (pessoa física)
US
J. Q. (pessoa física)
US
K. M. (pessoa física)
US
R. L. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
61/947,300 · 03/03/2014
Resumo técnico
DIÉSTERES RAMIFICADOS PARA O USO COMO UMA MATÉRIA-PRIMA E EM APLICAÇÕES LUBRIFICANTES.Este pedido refere-se às composições diéster ramificado que podem ser usadas como uma matéria-prima para aplicações lubrificantes, ou como um componente de mistura de matéria-prima para o uso em um lubrificante acabado ou para aplicações particulares, e métodos para fabricar as mesmas.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Adição na publicação
#15.35
03/08/2021
RPI 2639
Adição na publicação
#15.35
20/07/2021
RPI 2637
Transferência deferida
#25.1
15/06/2021
RPI 2632
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
02/03/2021
RPI 2617
Exigência preliminar
#6.21
27/02/2020
RPI 2564
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.
15/08/2017
RPI 2432
Alteração de dados cadastrais
#1.1
01/11/2016
RPI 2391
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