Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
09/11/2021
RPI 2653
Dados do pedido
Número
112016005792Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP2014002406 Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 09/11/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
OERLIKON SURFACE SOLUTIONS AG, PFÄFFIKON
CH
Inventores
C. R. (pessoa física)
VN
Classificação IPC
Prioridades unionistas
DE
10 2013 015 580.0 · 20/09/2013
Resumo técnico
RESUMO "EQUIPAMENTO PARA O TRATAMENTO DE SUBSTRATOS COM RADIAÇÃO", por tratar a presente invenção de um equipamento para o tratamento de substratos com radiação, que compreende pelo menos uma fonte de radiação localizada em uma câmara acima dos suportes para os substratos para o carregamento dos substratos a serem tratados, sendo que a câmara compreende meios para manter um fluxo de gás na câmara, os mencionados meios tendo pelo menos uma entrada de gás e pelo menos uma saída de gás, caracterizado pelo fato de que a pelo menos uma entrada de gás encontra-se localizada na região dos suportes para os substratos, de tal maneira que o gás fluindo através da pelo menos uma entrada de gás flua primeiramente em torno dos suportes para os substratos antes de sair novamente do interior da câmera através da saída de gás, ou diretamente e/ou após fluir em torno da pelo menos uma fonte de radiação. 1/1
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.2
09/11/2021
RPI 2653
#6.1
03/08/2021
RPI 2639
#6.21
03/12/2019
RPI 2552
#6.6.1
27/02/2018
RPI 2460
#1.3
Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.
01/08/2017
RPI 2430
#1.1
29/03/2016
RPI 2360
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