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Dado oficial do INPI

MÉTODO E DISPOSITIVO PARA ELETROGALVANIZAÇÃO EM GEOMETRIA CILÍNDRICA

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · FR2014050703
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Dados do pedido

Número

112015025739

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

25/03/2014

Publicação

22/08/2017

PCT

FR2014050703
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Andamento no INPI

  1. Depósito25/03/14
  2. Publicação22/08/17
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 15/05/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Centre National de La Recherche Scientifique (CNRS)

FR

E. F. (pessoa física)

FR

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Inventores

D. L. (pessoa física)

FR

E. C. (pessoa física)

FR

G. S. (pessoa física)

FR

N. L. (pessoa física)

FR

Dados técnicos

Classificação IPC

C25D 17/00C25D 17/02C25D 17/06C25D 17/10C25D 17/12C25D 21/10C25D 5/00C25D 5/02C25D 7/06

Prioridades unionistas

FR

13 53249 · 10/04/2013

Resumo técnico

RESUMOPatente de Invenção: "MÉTODO E DISPOSITIVO PARA ELETROGALVANIZAÇÃO EM GEOMETRIA CILÍNDRICA". A presente invenção refere-se a um método e dispositivo para eletrodeposição em geometria cilíndrica. A invenção se refere a um método para depositar de modo eletroquímico uma camada fina em um substrato flexível que compreende as etapas seguintes: - fornecer, em um banho de eletrólise, um primeiro cilindro fechado em um segundo cilindro oco, - aplicar o substrato flexível a uma das superfícies escolhidas dentre a superfície externa do primeiro cilindro e a superfície interna do segundo cilindro, em que o substrato flexível forma um primeiro eletrodo, - fornecer, no banho de eletrólise, um segundo eletrodo, e - aplicar uma diferença potencial entre o primeiro eletrodo e o segundo eletrodo a fim de eletrodepositar a camada fina no substrato flexível.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2455 de 23-01-2018 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

15/05/2018

RPI 2471

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 4ª anuidade.

23/01/2018

RPI 2455

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.

22/08/2017

RPI 2433

Alteração de dados cadastrais

#1.1

08/12/2015

RPI 2344

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