Dados do pedido
Número
112015023353Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2014029360 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 21/11/2017. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
GTC TECHNOLOGY US, LLC
US
Inventores
M. M. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
61/781,420 · 14/03/2013
Resumo técnico
RESUMOSEPARAÇÃO DE IMPUREZAS DURANTE PROCESSOS DE EXTRAÇÃOUm processo para a remoção de compostos de enxofre a partir de uma corrente de hidrocarbonetos é divulgado. O processo inclui de destilação extrativa de uma carga de alimentação, juntamente com uma coluna de recuperação de solvente que tem uma drenagem lateral de vapor contendo as impurezas de compostos de enxofre.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2430 de 01-08-2017 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
21/11/2017
RPI 2446
#8.6
Referente à 3ª anuidade.
01/08/2017
RPI 2430
#1.3
Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.
18/07/2017
RPI 2428
#1.1
08/12/2015
RPI 2344
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