Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
16/10/2018
RPI 2493
Dados do pedido
Número
112015022424Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2014024933 Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 12/03/2014, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 16/10/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
SDCMATERIALS, INC.
US
Inventores
D. L. (pessoa física)
US
F. L. (pessoa física)
US
M. B. (pessoa física)
US
P. L. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
61/784,299 · 14/03/2013
US
61/864,350 · 09/08/2013
US
61/885,988 · 02/10/2013
US
61/885,990 · 02/10/2013
US
61/885,996 · 02/10/2013
US
61/885,998 · 02/10/2013
Resumo técnico
RESUMOPatente de Invenção: "PRODUÇÃO DE PARTÍCULA DE ALTO RENDIMENTO UTILIZANDO UM SISTEMA DE PLASMA". A presente invenção refere-se a um sistema de produção de nanopartículas e métodos de utilização do sistema. O sistema de produção de nanopartículas inclui um canhão de plasma incluindo um eletrodo macho, eletrodos fêmeas e uma fonte de gás útil configurada para liberar um gás útil em uma direção de fluxo helicoidal em vórtice através de uma região de geração do plasma. O sistema também inclui um sistema de alimentação contínua, uma câmara de arrefecimento brusco, um canal de refrigeração que inclui um desregulador de fluxo laminar, um módulo de sobrepressão de sistema, e um sistema de recirculação e purificação de fluido de condicionamento.1/1
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.1.1
16/10/2018
RPI 2493
#11.1
19/06/2018
RPI 2476
#1.3
Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.
18/07/2017
RPI 2428
#1.1
08/12/2015
RPI 2344
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