(11) 98705-3426
TrademarkIQ íconeTrademarkIQ
Voltar para busca
Dado oficial do INPI

MÉTODO PARA FABRICAÇÃO DE ELEMENTO EMISSOR DE LUZ SEMICONDUTOR

ExtintaPatente de InvençãoPCT · JP2014055651 Documento oficial disponível

Dados do pedido

Número

112015021734

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

05/03/2014

Publicação

18/07/2017

PCT

JP2014055651

Carta-patente disponível

Temos o documento oficial completo deste processo, publicado pelo INPI.

Acessar documento

Andamento no INPI

  1. Depósito05/03/14
  2. Publicação18/07/17
  3. Exame
  4. Deferimento16/03/21
  5. Concessão27/04/21
  6. Extinto19/05/26

Patente concedida em 27/04/2021 e depois extinta em 19/05/2026. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

Falar com um especialista

Última movimentação publicada pelo INPI: 19/05/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

STANLEY ELECTRIC CO., LTD.

JP

Inventores

M. M. (pessoa física)

JP

T. A. (pessoa física)

JP

T. S. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Prioridades unionistas

JP

2013-049003 · 12/03/2013

Resumo técnico

RESUMOPatente de Invenção: "MÉTODO PARA FABRICAÇÃO DE ELEMENTO EMISSOR DE LUZ SEMICONDUTOR". A presente invenção refere-se a um elemento emissor de luz semicondutor altamente confiável que tem protuberâncias que estão dispostas de modo regular e tamanho uniforme e um método para fabricação do dito elemento. Esse método para fabricação de um elemento emissor de luz semicondutor inclui: uma etapa para formar uma camada de máscara que tem uma pluralidade de aberturas dispostas em intervalos regulares ao longo de um eixo geométrico de cristal de uma camada de estrutura semicondutora na superfície da camada de estrutura semicondutora; uma etapa para realizar um tratamento de plasma na superfície da camada de estrutura semicondutora que é exposta pelas aberturas da camada de máscara; uma etapa para remover a camada de máscara; e uma etapa para formar protuberâncias na superfície da camada de estrutura semicondutora através da caustificação úmida da superfície da camada de estrutura semicondutora.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2869 de 30-12-2025 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

19/05/2026

RPI 2889

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 12ª anuidade.

30/12/2025

RPI 2869

Concessão da patente

#16.1

20 (vinte) anos contados a partir de 05/03/2014, observadas as condições legais

27/04/2021

RPI 2625

Deferimento

#9.1

16/03/2021

RPI 2619

Exigência preliminar

#6.21

24/03/2020

RPI 2568

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

13/11/2018

RPI 2497

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.

18/07/2017

RPI 2428

Alteração de dados cadastrais

#1.1

15/12/2015

RPI 2345

Monitoramento de patentes

Acompanhe esta patente em tempo real.

Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.