Concessão da patente
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 15/02/2013, observadas as condições legais
28/12/2021
RPI 2660
Dados do pedido
Número
112015019593Tipo
Depósito
Publicação
PCT
IT2013000049 Patente concedida em 28/12/2021 e em vigor até 15/02/2033. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:15/02/2033
Última movimentação publicada pelo INPI: 28/12/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
DAITECH S.A.
CH
TECNOLOGICA S.A.S. DI VANELLA SALVATORE & C.
IT
TECNOLOGICA S.A.S. DI VANELLA SIMONE & C.
IT
Inventores
V. S. (pessoa física)
IT
Resumo técnico
DISPOSITIVO DE FILTRAÃÃO DE MATERIAL PARTICULADO PARA GASES DE COMBUSTÃO, GASES DE EXAUSTÃO E SIMILARES, E CIRCUITO DE SAÃDA ASSOCIADO.A presente invenção está correlacionada a um dispositivo de filtração de material particulado, para gases de exaustão, gases de combustão e similares, compreendendo um dispositivo de confinamento (2) que pode ser disposto ao longo de um circuito de saÃda (3) de um fluxo de gases de exaustão, gases de combustão e similares, antes da liberação dos mesmos para o ambiente externo. O dispositivo de confinamento (2) define um duto interno (4) que pode ser atravessado pelo fluxo e afetado por uma placa condutora perfurada (5), mantida em um potencial elétrico negativo, para a emissão e dispersão no duto (4) de elétrons que possam ser acoplados à s partÃculas poluentes (B) que são levadas pelo fluxo e que constituem substancialmente o material particulado, consequentemente, proporcionando à s mesmas uma carga elétrica negativa. Ao longo do duto (4), a jusante da placa perfurada (5), se dispõe pelo menos uma placa de acúmulo (6), mantida em um potencial elétrico positivo para a atração e adesão estável de partÃculas eletricamente carregadas (B) na placa de acúmulo (6). O dispositivo de filtração compreende pelo menos um filamento condutor (7), mantido em um potencial elétrico negativo, que se defronta e se dispõe próximo de pelo menos uma respectiva abertura (8) da placa perfurada (5), a fim de definir uma fonte primária de emissão e dispersão de elétrons, que pode ser acoplada à s partÃculas (B) que são levadas pelo fluxo, substancialmente próxima ao seu cruzamento com a abertura (8).
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 15/02/2013, observadas as condições legais
28/12/2021
RPI 2660
#9.1
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#6.21
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RPI 2568
#25.1
13/08/2019
RPI 2536
#6.6.1
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RPI 2500
#25.4
27/02/2018
RPI 2460
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#1.1
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