Patente de Invenção DISPOSITIVO DE BOMBARDEIO DE ÍONS E MÉTODO PARA UTILIZAÇÃO DO MESMO PARA LIMPAR SUPERFÍCIE DE SUBSTRATO de KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.) — IPC C23C 14/02. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.
RESUMODISPOSITIVO DE BOMBARDEIO DE ÍONS E MÉTODO PARA UTILIZAÇÃO DO MESMO PARA LIMPAR SUPERFÍCIE DE SUBSTRATOÉ fornecido um dispositivo de bombardeio de íons (1) para estabilização e limpeza da superfície de um substrato. O dispositivo é fornecido com o seguinte: uma câmara de vácuo (2); pelo menos um eletrodo (3) que é disposto sobre a face da parede interior da câmara de vácuo (2) e emite elétrons; uma pluralidade de anodos (4) que recebem os elétrons a partir do eletrodo (3) e que são dispostos de modo a enfrentar o eletrodo com o substrato ensanduichado entre os mesmos; e uma pluralidade de fontes de potência de descarga (5) correspondentes aos anodos (4), respectivamente. Cada uma das fontes de potência de descarga (5) é isolada a partir da câmara de vácuo (2) e fornece para o anodo (4) correspondente à fonte de potência de descarga relevante (5) correntes e tensões que podem ser ajustadas independentemente umas das outras, gerando assim uma descarga luminescente entre tal anodo (4) e o eletrodo (3).
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
04/02/2020
RPI 2561
Retificação da notificação da fase nacional - PCT
#1.3.1
Retificação para inclusão de inventor.
12/11/2019
RPI 2549
Exigência preliminar
#6.21
22/10/2019
RPI 2546
Notificação de acesso ao patrimônio genético
#6.6.1
27/02/2018
RPI 2460
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.
