Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
03/04/2018
RPI 2465
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Dado oficial do INPI
ELEMENTO EMISSOR DE LUZ, SUBSTRATO E MÉTODO
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · IB2013061038
Dados do pedido
Número
112015016089Tipo
Patente de Invenção
Depósito
17/12/2013
Publicação
11/07/2017
PCT
IB2013061038 Andamento no INPI
- Depósito17/12/13
- Publicação11/07/17
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 17/12/2013, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 03/04/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
KONINKLIJKE PHILIPS N.V.
NL
LUMILEDS HOLDING B.V.
NL
Inventores
S. W. (pessoa física)
NL
S. T. (pessoa física)
NL
Dados técnicos
Prioridades unionistas
US
61/749,941 · 08/01/2013
Resumo técnico
RESUMO ELEMENTO EMISSOR DE LUZ, SUBSTRATO E MÉTODO O formato de um elemento emissor de luz (400;500) é projetado para aumentar a quantidade de luz que sai das superfícies de um elemento emissor de luz (400;500). Os índices de refração do elemento emissor de luz (400;500) e o ambiente circundante definem uma zona de escape através da qual a luz pode escapar através de uma superfície do elemento emissor de luz (400;500). A luz que viaja para fora da zona de escape é totalmente refletida internamente na superfície. Com o aumento do número de superfícies no elemento emissor de luz (400;500), o número de zonas de escape (410a-f; 411a-f; 510a-h; 511a-h) pode ser aumentado, com um aumento correspondente na probabilidade de escape de luz das superfícies. Um elemento emissor de luz (400;500) que compreende superfície poligonal com mais de quatro lados (402a-f; 502a-h) exibe uma maior eficiência de extração de luz e também permite uma injeção de corrente mais uniforme, com menos esforço mecânico em comparação com o que tem área de superfície retangular. 1/1
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Transferência deferida
#25.1
06/03/2018
RPI 2461
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
23/01/2018
RPI 2455
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.
11/07/2017
RPI 2427
Alteração de dados cadastrais
#1.1
14/07/2015
RPI 2323
Monitoramento de patentes
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