Concessão da patente
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 09/12/2013, observadas as condições legais
02/02/2021
RPI 2613
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Dado oficial do INPI
DISPOSITIVO GERADOR DE PLASMA E MÉTODO PARA O REVESTIMENTO DE SUBSTRATOS
ConcedidaPatente de InvençãoPCT · EP2013003704 Documento oficial disponível
Dados do pedido
Número
112015013749Tipo
Patente de Invenção
Depósito
09/12/2013
Publicação
11/07/2017
PCT
EP2013003704 Carta-patente disponível
Temos o documento oficial completo deste processo, publicado pelo INPI.
Acessar documentoAndamento no INPI
- Depósito09/12/13
- Publicação11/07/17
- Exame
- Deferimento01/12/20
- Concessão02/02/21
- Em vigor09/12/33
Patente concedida em 02/02/2021 e em vigor até 09/12/2033. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:09/12/2033
Última movimentação publicada pelo INPI: 02/02/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
OERLIKON SURFACE SOLUTIONS AG, PFÄFFIKON
CH
OERLIKON SURFACE SOLUTIONS AG, TRÜBBACH
CH
Inventores
J. H. (pessoa física)
CH
S. K. (pessoa física)
AT
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
DE
10 2012 024 340.5 · 13/12/2012
Resumo técnico
RESUMOPatente de invenção: "FONTE DE PLASMA". A presente invenção se refere a um dispositivo gerador de plasma, abrangendo - uma fonte de plasma com corpo oco de fonte de plasma (1) e uma unidade emissora de elétrons (5), possibilitando emitir elétrons livres para o corpo oco de fonte de plasma, apresentando o corpo oco de fonte de plasma (1) uma primeira entrada de gás (7a) e uma abertura de fonte de plasma (10), a qual forma uma abertura na direção de uma câmara de vácuo, - bem como um anodo com corpo oco de anodo (2), sendo que o corpo oco do anodo (2) apresenta uma segunda entrada de gás (7b) e uma abertura de anodo (11), que forma uma abertura na direção da câmara de vácuo - bem como uma fonte de tensão (8), cujo polo negativo está ligado com a unidade emissora de elétrons (5) e cujo polo positivo está ligado com o corpo oco de anodo (2), sendo que polo positivo da fonte de tensão 8 está unido, adicionalmente, com o corpo oco da fonte de plasma, em forma energizada, através de uma primeira resistência derivada (6a).
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Deferimento
#9.1
01/12/2020
RPI 2604
Exigência preliminar
#6.21
14/04/2020
RPI 2571
Notificação de acesso ao patrimônio genético
#6.6.1
21/11/2018
RPI 2498
Alteração de sede deferida
#25.7
15/05/2018
RPI 2471
Alteração de nome deferida
#25.4
24/04/2018
RPI 2468
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.
11/07/2017
RPI 2427
Alteração de dados cadastrais
#1.1
23/06/2015
RPI 2320
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