Concessão da patente
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 06/01/2013, observadas as condições legais
14/04/2020
RPI 2571
Dados do pedido
Número
112015004487Tipo
Depósito
Publicação
PCT
CN2013070129 Patente concedida em 14/04/2020 e em vigor até 06/01/2033. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:06/01/2033
Última movimentação publicada pelo INPI: 14/04/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
ZHEJIANG NHU COMPANY LTD
CN
Z. U. (pessoa física)
CN
Inventores
C. Z. (pessoa física)
CN
C. Z. (pessoa física)
CN
C. W. (pessoa física)
CN
S. W. (pessoa física)
CN
T. L. (pessoa física)
CN
X. L. (pessoa física)
CN
Z. C. (pessoa física)
CN
Classificação IPC
Prioridades unionistas
CN
201210320297.0 · 03/09/2012
Resumo técnico
MÃTODO LIMPO PARA PREPARAR D,L-METIONINA. Na presente invenção, é descrito um método limpo para preparar uma D,L-metionina compreendendo as etapas de: preparar uma solução de cianeto de potássio usando um licor mãe cristalizado contendo carbonato de cálcio como um lÃquido absorvente para absorver ácido cianÃdrico, então reagir a solução de cianeto de potássio com 3-maetiltio propionaldeido e uma solução de bicarbonato de amônio a 50-150°C por 3-15 minutos de modo a obter uma solução de 5-(j3-metiltioetil) glicolureia, então trazer a solução de 5-(3-metiltioetil) glicolureia em uma temperatura de 140-220°C e submeter a uma reação de saponificação por 2-5 minutos, após a conclusão da saponificação, reduzindo a temperatura de 140-220°C e submeter a uma reação de saponificação por 2-5 minutos, após a conclusão da saponificação, reduzindo a temperatura a 0-40°C, extrair com um solvente orgânico, neutralizar a fase aquosa com CO2 e cristalizar, então filtrar, lavar, e secar para obter um produto de D,L-metionina aceitável; trazer o licor mãe de D,L-metionina da filtração a uma temperatura de 110-160°C para remover CO2, que são todos então circulados e usados como um lÃquido de absorção de ácido cianÃdrico. A via do processo da presente invenção é uma via adequada para uma produção limpa e contÃnua, substancialmente sem produzir água residual e gás residual.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 06/01/2013, observadas as condições legais
14/04/2020
RPI 2571
#9.1
24/03/2020
RPI 2568
#6.1
16/07/2019
RPI 2532
#6.6.1
04/12/2018
RPI 2500
#1.3
08/08/2017
RPI 2431
#1.1
11/07/2017
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