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Dado oficial do INPI

APARELHO E MÉTODO PARA O REVESTIMENTO POR PLASMA DE UM SUBSTRATO, EM PARTICULAR DE UMA PLACA DE PRENSA

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · AT2013050152
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Dados do pedido

Número

112015002657

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

06/08/2013

Publicação

04/07/2017

PCT

AT2013050152
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Andamento no INPI

  1. Depósito06/08/13
  2. Publicação04/07/17
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 28/09/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

B. A. (pessoa física)

AT

BERNDORF HUECK BAND - UND PRESSBLECHTECHNIK GMBH

AT

BERNDORF INNOVATIONS UND TECHNOLOGIE GMBH

AT

Inventores

A. G. (pessoa física)

AT

D. H. (pessoa física)

AT

H. S. (pessoa física)

AT

J. L. (pessoa física)

AT

M. P. (pessoa física)

AT

O. S. (pessoa física)

AT

T. M. (pessoa física)

AT

Dados técnicos

Classificação IPC

B30B 15/06C23C 16/50C23C 16/52H01J 37/32

Prioridades unionistas

AT

A 877/2012 · 08/08/2012

Resumo técnico

APARELHO E MÉTODO PARA O REVESTIMENTO POR PLASMA DE UM SUBSTRATO, EM PARTICULAR DE UMA PLACA DE PRENSA. A invenção diz respeito a um aparelho (100 .. 103) para o revestimento por plasma de um substrato (2), em particular de uma placa de prensa, que compreende uma câmara de vácuo (3) e, montado em tal câmara, um eletrodo (400 . .409), que é segmentado, em que cada um dos segmentos de eletrodo (500 .. 512) tem uma conexão dedicada (6) para uma fonte de energia elétrica (700 .. 702). Também é proporcionado um método para o funcionamento do referido aparelho (100 .. 103), em que um substrato (2) a ser revestido é colocado em função do referido eletrodo (400 . .409) e de pelo menos uma fonte de energia (700 .. 706), que é atribuída a um segmento de eletrodo (500 .. 512), é ativada. Além do mais, é introduzido um gás, com o efeito de proporcionar uma deposição de vapor químico assistida por plasma sobre o substrato (2 )

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2631 de 08-06-2021 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

28/09/2021

RPI 2647

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 8ª anuidade.

08/06/2021

RPI 2631

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

25/05/2021

RPI 2629

Exigência preliminar

#6.21

07/01/2020

RPI 2557

Transferência deferida

#25.1

19/11/2019

RPI 2550

Alteração de nome deferida

#25.4

29/10/2019

RPI 2547

Retificação da notificação da fase nacional - PCT

#1.3.1

Foi retificada a publicação 1.3 da RPI 2426 em relação ao item (72).

30/07/2019

RPI 2534

6.9

Anulada a publicação código 6.6.1 na RPI nº 2462 de 13/03/2018 por ter sido indevida.

20/03/2018

RPI 2463

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

13/03/2018

RPI 2462

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

06/03/2018

RPI 2461

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.

04/07/2017

RPI 2426

Alteração de dados cadastrais

#1.1

24/01/2017

RPI 2403

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