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Dado oficial do INPI

PROCESSOS SECOS, APARELHOS, COMPOSIÇÕES E SISTEMAS PARA A REDUÇÃO DE MERCÚRIO, ÓXIDOS DE ENXOFRE E HCI

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · US2013039083

Dados do pedido

Número

112014026335

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

01/05/2013

Publicação

18/07/2017

PCT

US2013039083

Andamento no INPI

  1. Depósito01/05/13
  2. Publicação18/07/17
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 21/11/2017. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

FUEL TECH, INC.

US

I. S. (pessoa física)

US

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

C. S. (pessoa física)

US

E. R. (pessoa física)

US

I. S. (pessoa física)

US

K. S. (pessoa física)

US

M. F. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

61/641.055 · 01/05/2012

Resumo técnico

RESUMOPROCESSOS SECOS, APARELHOS, COMPOSIÇÕES E SISTEMAS PARA A REDUÇÃO DE MERCÚRIO, ÓXIDOS DE ENXOFRE E HCITrata-se de processos secos, aparelhos, composições e sistemas que são fornecidos para reduzir as emissões de mercúrio e, opcionalmente, óxidos de enxo-fre e/ou HCI. Em uma modalidade, a composição de remediação de mercúrio à base de cobre compreende um complexo de amônio de cobre que tem uma fórmula empí-rica de C2H7CuNO2 ou qualquer dos outros materiais descritos, que incluem as composições definidas pela fórmula Cu(NH3)x(carboxilato inferior)y, em que o carboxilato inferior é selecionado a partir do grupo que consiste em formiato, acetato e propionato, x é um número inteiro de 0 a 4, y é um número inteiro de 0 a 2, e x + y é igual ou superior a 1. Os óxidos de enxofre e/ou HCI podem ser adicionalmente reduzidos pela introdução de sorvente de hidrato de dolomita, e os produtos químicos adicionais de remediação de mercúrio, como os óxidos de manganês, podem ser utilizados. O fluxo de gás tratado é tratado com um dispositivo de remoção de partículas.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2430 de 01-08-2017 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

21/11/2017

RPI 2446

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 4ª anuidade.

01/08/2017

RPI 2430

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

18/07/2017

RPI 2428

Alteração de dados cadastrais

#1.1

02/12/2014

RPI 2291

Monitoramento de patentes

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