Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
28/12/2021
RPI 2660
Dados do pedido
Número
112014004909Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2012053117 Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 28/12/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
WATLOW ELECTRIC MANUFACTURING COMPANY
US
Inventores
C. S. (pessoa física)
US
K. P. (pessoa física)
US
K. S. (pessoa física)
US
P. S. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
61/528,939 · 30/08/2011
US
61/635,310 · 19/04/2012
Resumo técnico
AQUECEDOR DE ALTA DEFINIÃÃO E MÃTODO DE OPERAÃÃOUm aparelho é fornecido, a tÃtulo de exemplo, um aquecedor para uso em equipamento de processamento semicondutor que inclui uma camada funcional base tendo pelo menos uma zona funcional. Um substrato é fixado e uma camada de ajuste é fixada ao substrato em oposição a camada funcional de base. A camada de ajuste inclui uma pluralidade de zonas que é maior em numero que as zonas da camada funcional base, e a camada de ajuste tem energia menor que a camada funcional base. Adicionalmente, um componente, tal como, por exemplo, uma bucha, é fixado à camada de ajuste oposta ao substrato. O substrato define uma condutividade térmica para dissipar uma quantidade solicitada de energia da camada funcional base.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
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