Transferência deferida
#25.1
28/02/2023
RPI 2721
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Dado oficial do INPI
PROCESSO PARA FORMAÇÃO DE UM POLÍMERO
Em AnálisePatente de InvençãoPCT · US2012048442 Documento oficial disponível
Dados do pedido
Número
112014001116Tipo
Patente de Invenção
Depósito
27/07/2012
Publicação
14/02/2017
PCT
US2012048442 Carta-patente disponível
Temos o documento oficial completo deste processo, publicado pelo INPI.
Acessar documentoAndamento no INPI
- Depósito27/07/12
- Publicação14/02/17
- Exame
- Deferimento18/02/20
- Concessão17/03/20
- Em vigor27/07/32
Patente concedida em 17/03/2020 e em vigor até 27/07/2032. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:27/07/2032
Última movimentação publicada pelo INPI: 28/02/2023. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
DUPONT SAFETY & CONSTRUCTION, INC.
US
E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY
US
Inventores
K. L. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
61/513,025 · 29/07/2011
Resumo técnico
PROCESSO PARA FORMAÃÃO DE UM POLÃMERO E POLÃMEROA invenção se refere a processos para a formação de um polÃmero que compreende resÃduos de 2-(4-amino fenil)-5 (6) amino benzimidazol (DAPBI), parafenileno diamina e dicloreto de tereftaloÃla, que compreendem as etapas de: (a) formar uma pasta fluida de DAPBI eparafenileno diamina em um sistema solvente que compreende um solvente orgânico e um sal inorgânico; e (b) adicionar uma quantidade estequiométrica de dicloreto de tereftaloÃla à pasta fluida em uma única adição e permitir a formação do polÃmero.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Concessão da patente
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 27/07/2012, observadas as condições legais
17/03/2020
RPI 2567
Deferimento
#9.1
18/02/2020
RPI 2563
Exigência preliminar
#6.21
17/09/2019
RPI 2541
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
14/02/2017
RPI 2406
Alteração de dados cadastrais
#1.1
21/10/2014
RPI 2285
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