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Dado oficial do INPI

MÉTODO PARA DESENVOLVER UMA PLACA DE IMPRESSÃO FOTOCURÁVEL PARA PRODUZIR UM PADRÃO EM RELEVO

Em AnálisePatente de InvençãoPCT · US2012029766

Dados do pedido

Número

112013022951

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

20/03/2012

Publicação

06/12/2016

PCT

US2012029766

Andamento no INPI

  1. Depósito20/03/12
  2. Publicação06/12/16
  3. Exame
  4. Deferimento07/04/20
  5. Concessão27/10/20
  6. Em vigor20/03/32

Patente concedida em 27/10/2020 e em vigor até 20/03/2032. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:20/03/2032

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Depositantes e inventores

Depositantes

MACDERMID GRAPHICS SOLUTIONS, LLC

US

MACDERMID PRINTINGS SOLUTIONS, LLC

US

XSYS FLEXO US LLC

US

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Inventores

D. R. (pessoa física)

US

R. V. (pessoa física)

US

T. G. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

13/091.466 · 21/04/2011

Resumo técnico

LAMINADO DE RESINA FOTOSSENSÃVEL E TRATAMENTO TÃRMICO DOMESMO.Uma placa de impressão fotocurável compreendendo uma camada de suporte tendo uma camada fotocurável disposta sobre ela, uma camada de barreira disposta sobre a camada fotocurável, e uma camada de máscara ablativa a laser disposta sobre a parte superior da camada de barreira. O método inclui as etapas de (1) imagear pelo menos uma camada de foto polimerizável através da ablação da camada de máscara ablativa a laser para criar o padrão em relevo na placa de impressão fotocurável e (2) expor a placa de impressão à radiação actínica através da camada de barrei~a e da camada de máscara para reticular seletivamente as porções da camada fotocurável, criando, assim, o padrão em relevo, (3) desenvolver a placa de impressão para remover a camada de barreira, a camada de máscara ablativa a laser e as porções não curadas da camada fotocurável, bem como revelar o padrão em relevo. O método também pode ser usado com um processo de produção de chapa analógica que utiliza um negativo, em vez de uma camada de máscara ablativa.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Alteração de sede deferida

#25.7

25/08/2026

RPI 2903

Alteração de nome deferida

#25.4

11/08/2026

RPI 2901

Concessão da patente

#16.1

20 (vinte) anos contados a partir de 20/03/2012, observadas as condições legais

27/10/2020

RPI 2599

Deferimento

#9.1

07/04/2020

RPI 2570

6.20

16/07/2019

RPI 2532

Alteração de nome deferida

#25.4

28/08/2018

RPI 2486

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

03/04/2018

RPI 2465

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

06/12/2016

RPI 2396

Alteração de dados cadastrais

#1.1

24/03/2015

RPI 2307

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