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Dado oficial do INPI

MÉTODO PARA TRATAR UM LICOR MÃE SEPARADO DE UM ÁCIDO TEREFTÁLICO PURIFICADO

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · JP2011053701

Dados do pedido

Número

112013020492

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

21/02/2011

Publicação

25/10/2016

PCT

JP2011053701

Andamento no INPI

  1. Depósito21/02/11
  2. Publicação25/10/16
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 02/10/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

HITACHI, LTD

JP

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Inventores

H. Y. (pessoa física)

JP

H. T. (pessoa física)

JE

N. H. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Resumo técnico

MÉTODO PARA TRATAR UM LICOR MÃE SEPARADO DE UM ÁCIDO TEREFTÁLICO PURIFICADO Na presente invenção, uma pasta fluida tereftálica purificada gerada no processo para produzir ácido tereftálico de alta pureza por oxidação na fase líquida e purificação por hidrogenação usando p-xileno como um material de partida é separado em um licor mão primário e cristais primários de ácido tereftálico purificado. Ácido tereftálico, assim como ácido p-toluico e outro material dissolvido são esfriados e precipitados no licor mãe primário separado, e separados por filtração para separar e recuperar cristais de ácido tereftálico de baixa pureza, como uma parte de matéria-prima para a reação de oxidação na fase líquida de p-xileno. Cristais de ácido tereftálico são novamente adicionados ao, e misturados no, licor mãe primário separado, e depois a mistura é alimentada a um tanque de esfriamento ajustado para ter uma pressão reduzida menor que a pressão atmosférica, e esfriada por alívio de pressão, melhorando dessa maneira, a filtrabilidade do material precipitado. A quantidade de material dissolvido residual em um licor mãe secundário também separado por filtração é reduzida.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

Arquive-se por não manifestação da requerente.

02/10/2018

RPI 2491

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

22/05/2018

RPI 2472

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

25/10/2016

RPI 2390

Alteração de dados cadastrais

#1.1

14/01/2014

RPI 2245

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