Dados do pedido
Número
112013015919Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP2011072685 Patente concedida em 11/02/2020 e depois extinta em 30/01/2024. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 30/01/2024. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
UNILEVER IP HOLDINGS B.V.
PB
UNILEVER N.V.
NL
Inventores
B. S. (pessoa física)
IN
D. T. (pessoa física)
IN
R. S. (pessoa física)
IN
S. B. (pessoa física)
IN
S. H. (pessoa física)
IN
Prioridades unionistas
EP
EP11155308 · 22/02/2011
IN
3523/MUM/2010 · 24/12/2010
Resumo técnico
COMPOSIÃÃO DE PURIFICAÃÃO DE ÃGUA E PROCESSO PARA PURIFICAÃÃO DE ÃGUA DE LAVAGEM. A presente invenção se refere a composições e processos de purificação de água. Em particular, a presente invenção se refere à clarificação de lÃquido de lavagem de roupas e/ou de enxágue para economizar água para reutilização. Ã, portanto, um objetivo da presente invenção proporcionar economia de água em processo doméstico, especialmente processos de lavagem de roupa, particularmente lavagem manual em um curto perÃodo de tempo. Nós descobrimos que uma pasta compreendendo um floculante eletrólito e um coagulante polimérico dispersos em uma fase contÃnua da solução de compostos de amônio quaternário fornece uma composição de purificação e clarificação de água estável e eficaz.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2753 de 10-10-2023 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
30/01/2024
RPI 2769
#21.6
Referente à 12ª anuidade.
10/10/2023
RPI 2753
#25.1
23/02/2021
RPI 2616
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 14/12/2011, observadas as condições legais
11/02/2020
RPI 2562
#9.1
24/12/2019
RPI 2555
11/06/2019
RPI 2527
#6.6.1
03/04/2018
RPI 2465
#1.3
27/06/2017
RPI 2425
#1.1
23/05/2017
RPI 2420
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