Dados do pedido
Número
112013013294Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP2011006144 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 21/01/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
TA HYDRONICS S.A.
CH
Inventores
P. V. (pessoa física)
SI
Classificação IPC
Prioridades unionistas
EP
10015371.7 · 07/12/2010
Resumo técnico
APERFEIÃOAMENTOS EM VÃLVULAS DE COMPENSAÃÃO E CONTROLE.A presente invenção refere-se a uma válvula de controle e compensação combinada adequada para uso em um sistema hidrônico compreende uma câmara encerrando um tampão (6, 10, 16, 15), uma sede (13) e um meio de ajuste (20 -28) para ajustar a separação do tampão (6, 10, 16, 15) e da sede (13), um meio de monitoramento para monitorar a vazão de fluido ao longo da separação. O meio de ajuste compreende um meio de transformação de movimento (20 27), operável por um atuador (28), para controlar o movimento do tampão da válvula (6, 10, 16, 15), com o que se proporciona uma variação favorável na condutância da válvula, para uma determinada variação na posição do atuador, e o atuador (28) é calibrado em incrementos, que correspondem a variações na condutância.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2543 de 01-10-2019 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
21/01/2020
RPI 2559
#8.6
Referente à 8ª anuidade.
01/10/2019
RPI 2543
#6.6.1
18/12/2018
RPI 2502
#1.3
06/09/2016
RPI 2383
#1.1
24/03/2015
RPI 2307
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