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Dado oficial do INPI

FONTE DE ALTA POTÊNCIA DE RADIAÇÃO ELETROMAGNÉTICA

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · US2011051716

Dados do pedido

Número

112013005989

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

15/09/2011

Publicação

07/06/2016

PCT

US2011051716

Andamento no INPI

  1. Depósito15/09/11
  2. Publicação07/06/16
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 16/11/2016. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Biolase Technology, Inc.

US

Inventores

D. B. (pessoa física)

US

F. P. (pessoa física)

US

J. C. (pessoa física)

US

V. N. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

61/383,227 · 15/09/2010

Resumo técnico

FONTE DE ALTA POTÊNCIA DE RADIAÇÃO ELETROMAGNÉTICA. Tem-se a descrição de uma fonte de alta potência de radiação eletromagnética incorporando um compartimento de múltiplas finalidades. O compartimento de múltiplas finalidades inclui um interior preenchido com um material formando pelo menos uma fonte luminosa e compreendendo ainda de um refletor que pode envolver um bastão de laser circundado pela fontes luminosas para provisão de excitação da luz até ao bastão de laser. Um material dando definição a superfícies externas das fontes luminosas se estende para fora, vindo a definir superfícies externas do refletor. Um revestimento de alta-refletividade é posicionado sobre uma superfície externa do refletor, sob a forma de um revestimento de proteção. Disposto ainda sobre uma superfície externa do refletor pode haver um escoamento térmico opcional, com o resfriamento sendo realizado por meio de uma disposição opcional de ar forçado deslocando-se sobre o escoamento térmico. As fontes luminosas podem consistir de bombas de fontes luminosas, enquanto que o revestimento de alta-refletividade pode ser constituído para envolver o refletor.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2378 de 02-08-2016 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

16/11/2016

RPI 2393

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

referente a 4ª e 5ª anuidades

02/08/2016

RPI 2378

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

07/06/2016

RPI 2370

Alteração de dados cadastrais

#1.1

31/12/2013

RPI 2243

Monitoramento de patentes

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