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Dado oficial do INPI

FONTE DE LUZ DE PLASMA

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · GB2011001047

Dados do pedido

Número

112013000880

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

12/07/2011

Publicação

17/05/2016

PCT

GB2011001047

Andamento no INPI

  1. Depósito12/07/11
  2. Publicação17/05/16
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 05/09/2017. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Ceravision Limited

GB

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Inventores

B. P. (pessoa física)

GB

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

GB

1011786.9 · 13/07/2010

Resumo técnico

FONTE DE LUZ DE PLASMA. Uma fonte de luz de alta frequência (11) tem um corpo central (12) de quartzo fundido, com um vazio central (14), enchido com um enchimento (!6) no vazio de material excitável por energia de alta frequência de modo a formar um plasma emissor de luz. Uma manga interior (17) de enchimento de metal perfurado estende-se ao longo do comprimento do corpo central para dentro de 2,5 mm de sua extremidade de vazio para proporcionar um espaço de lançamento (18). A manga tem uma porção de extremidade transversal (19) estendendo sobre a outra extremidade interior do corpo central. Um cilindro exterior de quartzo fundido (20) com um orifício interior (21), tal como para ser um encaixe deslizante sobre o corpo central. Uma manga exterior (22) de metal perfurado, envolvendo o cilindro exterior e tendo uma porção de extremidade (23) estendendo através das extremidades de vazio, de descarga, do corpo de quartzo e cilindro (12, 20). A manga exterior tem uma saia (25) estendendo além das outras extremidades de descarga dos elementos de quartzo ao longo de um suporte de alumínio (26), onde ele é fixado, prendendo os elementos de quartzo contra o suporte. Assim, a manga forma com, sua extremidade (23) e o suporte (26), uma gaiola de Faraday em torno do quartzo e vazio de plasma (140. Uma antena (27) isolada a partir do suporte estende-se a partir dele para um orifício (28) no cilindro de quartzo (20) para a introdução de radiação de HF para dentro da guia de onda coaxial formado pela manta interior e exterior (17, 22). Sua perfuração é tal como para fazê-las opacas e envolvendo a radiação de HF ainda transmissivas de luz, por meio de que a luz a partir do plasma pode passar através delas. A porção da antena no suporte proporciona uma conexão a uma fonte não mostrada de energia de HF. A manga interior (17), na sua porção de extremidade (19), é aterrada para o suporte, da mesma maneira que a manga exterior e sua porção de extremidade (23). Assim, o espaço (18) entre a extremidade da manga interior e a porção de extremidade da gaiola de Faraday forma um espaço de lançamento para a energia de HF irradiar para o vazio de plasma e estabelecer e manter o plasma nele. A luz proveniente do plasma passa através do quartzo e através das perfurações nas mangas e a porção de extremidade (19), assim, para fora da fonte de luz.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2420 de 23-05-2017 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

05/09/2017

RPI 2435

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 6ª anuidade.

23/05/2017

RPI 2420

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

17/05/2016

RPI 2367

Alteração de dados cadastrais

#1.1

31/12/2013

RPI 2243

Monitoramento de patentes

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