(11) 98705-3426
TrademarkIQ íconeTrademarkIQ
Voltar para busca
Dado oficial do INPI

Fonte de evaporação por arco tendo alta velocidade de formação de película, método da fabricação de película de revestimento e aparelho de formação de película usando a fonte de evaporação por arco

ExtintaPatente de InvençãoPCT · JP2011003403

Dados do pedido

Número

112012033035

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

15/06/2011

Publicação

20/12/2016

PCT

JP2011003403

Andamento no INPI

  1. Depósito15/06/11
  2. Publicação20/12/16
  3. Exame
  4. Deferimento29/10/19
  5. Concessão03/12/19
  6. Extinto29/07/25

Patente concedida em 03/12/2019 e depois extinta em 29/07/2025. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

Falar com um especialista

Última movimentação publicada pelo INPI: 29/07/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)

JP

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

H. N. (pessoa física)

JP

K. Y. (pessoa física)

JP

N. G. (pessoa física)

JP

S. T. (pessoa física)

JP

Y. K. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

JP

2010-142614 · 23/06/2010

JP

2010-201946 · 09/09/2010

Resumo técnico

FONTE DE ARCO DE EVAPORAÇÃO COM VELOCIDADE RÁPIDA DE FORMAÇÃO DE PELÍCULA, DISPOSITIVO DE FORMAÇÃO DE PELÍCULA E MÉTODO DA FABRICAÇÃO DE PELÍCULA DE REVESTIMENTO USANDO A FONTE DE ARCO DE EVAPORAÇÃO. É revelad uma fonte de arco de evaporação tendo um rápido formado de filme. A fonte de arco de evaporação revelada (1) é fornecida com: pelo menos um imã de circunferência (3) tal que circunda a circunferência do alvo (2), e que colococada de modo que a direção da magnetização do imã corra ao longo da direção ortogonal da superfície do alvo (2); um primeiro imã permanente de forma nao circular (4A) que é colocado na superfície traseira do alvo (2), tem polaridade na mesma direção conforme a polaridade do imã de circunferência (3), e é colocado de modo que a direção de magnetização do mesmo percorra ao longo da direção ortogonal para a superfície do alvo (2); o segundo imã permanente de formato não circular (4B)que é colocado ou na superfície traseira do primeiro imã permanente (4A) ou entre o primeiro imã permanente (4A) e o alvo (2), de modo a deixar um espaço entre o primeiro imã permanente (4A), e que te a polaridade na mesma direção que a polaridade do imã de circunferência (3), e está disposto de modo que a direção de magnetização do mesmo corre ao longo da direção ortogonal da superfície do alvo (2), e um corpo magnético (5), que está disposta entre o primeiro imã permanente (4A) e o segundo imã permanente (4B).

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2831 de 08-04-2025 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

29/07/2025

RPI 2847

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 14ª anuidade.

08/04/2025

RPI 2831

Concessão da patente

#16.1

20 (vinte) anos contados a partir de 15/06/2011, observadas as condições legais

03/12/2019

RPI 2552

Deferimento

#9.1

29/10/2019

RPI 2547

6.20

12/03/2019

RPI 2514

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

10/04/2018

RPI 2466

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

20/12/2016

RPI 2398

Alteração de dados cadastrais

#1.1

31/12/2013

RPI 2243

Monitoramento de patentes

Acompanhe esta patente em tempo real.

Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.