Alteração de sede deferida
#25.7
08/03/2022
RPI 2670
Dados do pedido
Número
112012026552Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP2011000057 Carta-patente disponível
Temos o documento oficial completo deste processo, publicado pelo INPI.
Acessar documentoPatente concedida em 11/01/2022 e em vigor até 10/01/2031. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:10/01/2031
Última movimentação publicada pelo INPI: 08/03/2022. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
OERLIKON SURFACE SOLUTIONS AG, PFÄFFIKON
CH
OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH
CH
Inventores
J. H. (pessoa física)
AT
S. K. (pessoa física)
AT
Classificação IPC
Prioridades unionistas
DE
10 2010 020 737.3 · 17/05/2010
US
61/324,929 · 16/04/2010
Resumo técnico
ALVO PARA VAPORIZAÇÃO DE CENTELHA COM LIMITAÇÃO ESPACIAL DA PROPAGAÇÃO DE CENTELHA. A presente invenção refere-se a um alvo para uma fonte ARC com um primeiro corpo (3) de um material a ser vaporizado, que compreende essencialmente em um plano uma superfície prevista para vaporização, sendo que a superfície nesse plano envolve uma região central, caracaterizado pelo fato de que na região central é provido um segundo corpo (7), executado de preferência em forma de disco, eletricamente isolado do primeiro corpo (3) de tal maneira, que pelo segundo corpo (7) essencialmente não podem ser disponibilizados elétrons para manutenção de uma centelha.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#25.7
08/03/2022
RPI 2670
#25.4
15/02/2022
RPI 2667
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 10/01/2011, observadas as condições legais
11/01/2022
RPI 2662
#9.1
03/11/2021
RPI 2652
#7.1
13/07/2021
RPI 2636
#6.21
17/09/2019
RPI 2541
#6.6.1
08/01/2019
RPI 2505
#25.7
28/11/2017
RPI 2447
#1.3
12/07/2016
RPI 2375
#1.1
24/04/2013
RPI 2207
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