Arquivamento - Art. 38 §2° da LPI
#11.4
30/06/2020
RPI 2582
Dados do pedido
Número
112012023122Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP2010006704 Pedido deferido em 31/12/2019, mas arquivado por falta do pagamento da concessão (art. 38 da LPI). A carta-patente nunca foi emitida.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 30/06/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
AMMINEX A/S
DK
AMMINEX EMISSIONS TECHNOLOGY A/S.
DK
Inventores
J. P. (pessoa física)
DK
T. J. (pessoa física)
DK
Classificação IPC
Prioridades unionistas
EP
10002762.2 · 16/03/2010
US
61/314,354 · 16/03/2010
Resumo técnico
MÉTODO PARA DOSAGEM CONTROLADA DE UM GÁS COM PRESSÃO DE SUPRIMENTO FLUTUANTE (P~ SUPPKLY~) DO REFERIDO GÁS, CONTROLADOR E DISPOSITIVO PARA FLUXO CONTROLADO DE UM GÁS PARA UM PROCESSO - Um método para dosagem controlada de um gás com pressão de suprimento flutuante (P~ supply ~). Dosagem do gás através de uma válvula (6) é realizada enquanto uma válvula (5) é fechada e a diminuição na pressão de volume de controle (P~ cv~) é registrada. A pressão de volume de controle (P~ cv~) é aumentada pelo fechamento de válvula de dosagem (6) e abertura da válvula (5). A quantidade do gás dosagem é calculada com base conhecido (V~cv~) do volume de controle (4) e pelo menos uma alteração na pressão de volume de controle (P~ cv~) e temperatura de volume de controle (T~ cv~) no período onde válvula (5) é fechada. A quantidade de gás dosada é comparada com um alvo ou ponto de ajuste ou regula o período de dosagem subsequente ou evento de dosagem.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.4
30/06/2020
RPI 2582
#9.1
31/12/2019
RPI 2556
#6.1
16/07/2019
RPI 2532
18/12/2018
RPI 2502
#6.6.1
10/04/2018
RPI 2466
#25.1
28/11/2017
RPI 2447
#1.3
24/05/2016
RPI 2368
#1.1
25/06/2013
RPI 2216
Do mesmo titular
Da mesma categoria
Monitoramento de patentes
Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.