Extinção para fins de restauração (art. 87)
#21.6
Referente à 16ª anuidade.
26/05/2026
RPI 2890
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Dado oficial do INPI
Reator de deposição de vapor químico intensificado por plasma de placa paralela com acoplamento capacitivo
Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · IB2010053138
Dados do pedido
Número
112012019479Tipo
Patente de Invenção
Depósito
09/07/2010
Publicação
12/09/2017
PCT
IB2010053138 Andamento no INPI
- Depósito09/07/10
- Publicação12/09/17
- Exame
- Deferimento19/01/21
- Concessão23/02/21
- Extinto26/05/26
Patente concedida em 23/02/2021 e depois extinta em 26/05/2026. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 26/05/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
MEYER BURGER (GERMANY) AG
DE
MEYER BURGER (GERMANY) GMBH
DE
ROTH & RAU AG
DE
Inventores
A. B. (pessoa física)
CH
B. S. (pessoa física)
DE
G. W. (pessoa física)
CH
J. M. (pessoa física)
DE
T. S. (pessoa física)
DE
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
EP
10401018 · 08/02/2010
Resumo técnico
REATOR DE DEPOSIÃÃO DE VAPOR QUÃMICO INTENSIFICADO POR PLASMA DE PLACA PARALELA COM ACOPLAMENTO CAPACITIVOA presente invenção refere-se a um reator de deposição de vapor quÃmico intensificado por plasma de placa paralela com acoplamento capacitivo que compreende uma unidade de distribuição de gás que é integrada a um eletrodo de RF e que compreende uma saÃda de gás. O objetivo da presente invenção é fornecer um reator de placa paralela do tipo referido com o qual camadas com alta homogeneidade de espessura e qualidade podem ser produzidas. O objetivo é resolvido por um reator de deposição de vapor intensificado por plasma de placa paralela com acoplamento capacitivo do tipo mencionado em que a unidade de distribuição de gás compreende uma cabeça de chuveiro de múltiplos estágios construÃda de tal maneira que fornece um ajuste independente de distribuição de gás e perfil de emissão de gás da unidade de distribuição de gás.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
16.3
Ref. RPI 2616 de 23/02/2021 quanto ao inventor.
23/03/2021
RPI 2620
Concessão da patente
#16.1
10 (dez) anos contados a partir de 23/02/2021, observadas as condições legais
23/02/2021
RPI 2616
Deferimento
#9.1
19/01/2021
RPI 2611
Alteração de nome deferida
#25.4
09/06/2020
RPI 2579
Publicação anulada - titular
#25.12
Anulada a publicação código 25.4 na RPI nº 2573 de 28/04/2020 por ter sido indevida.
26/05/2020
RPI 2577
Alteração de nome deferida
#25.4
28/04/2020
RPI 2573
Alteração de nome deferida
#25.4
07/04/2020
RPI 2570
Exigência preliminar
#6.21
24/09/2019
RPI 2542
Notificação de acesso ao patrimônio genético
#6.6.1
10/04/2018
RPI 2466
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
12/09/2017
RPI 2436
Alteração de dados cadastrais
#1.1
11/12/2012
RPI 2188
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