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Dado oficial do INPI

PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE SUBSTRATO DE RESINA TENDO CAMADA DE REVESTIMENTO DUTO, E SUBSTRATO DE RESINA TENDO CAMADA DE REVESTIMENTO DURO

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · JP2011051126

Dados do pedido

Número

112012018293

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

21/01/2011

Publicação

05/06/2018

PCT

JP2011051126

Andamento no INPI

  1. Depósito21/01/11
  2. Publicação05/06/18
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 23/10/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Asahi Glass Company, Limited

JP

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Inventores

K. Y. (pessoa física)

JP

T. S. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Prioridades unionistas

JP

2010-012228 · 22/01/2010

Resumo técnico

PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE SUBSTRATO DE RESINA TENDO CAMADA DE REVESTIMENTO DUTO, E SUBSTRATO DE RESINA TENDO CAMADA DE REVESTIMENTO DURO. A invenção refere-se a um processo para produção de um substrato de resina tendo uma camada de revestimento duto, que é capaz de formar revestimento duto tendo suficiente resistência á abrasão sobre um substrato de resina, e um substrato de resina tendo uma camada de revestimento duto excelente na resistência á abrasão. Um processo para produção de um substrato de resina tendo uma camada de revestimento duro sobre pelo menos um lado de um substrato de resina, compreendendo, na seguinte ordem, uma etapa de aplicação de uma composição de revestimento duro contendo um organopolissiloxano a pelo menos um lado do substrato de resina para formar um filme de revestimento da composição, e então aplicando um primeiro tratamento térmicoaofilme de revestimento para formar um filme curado; uma etapa de irradiação de aplicação de um tratamento de irradiação de luz de excimer de Xe~ 2~ao filme curado em uma atmosfera tendo uma concentração de oxigênio de no máximo 5% em volume; e uma etapa de aplicação de um tratamento de oxidação para filme curado obtido pela etapa de irradiação e então ainda aplicando um segundo tratamento térmico para formar a camada de revestimento duro.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2475 de 12-06-2018 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

23/10/2018

RPI 2494

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente às 6ª e 7ª anuidades.

12/06/2018

RPI 2475

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

05/06/2018

RPI 2474

Alteração de dados cadastrais

#1.1

18/12/2012

RPI 2189

Monitoramento de patentes

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