Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
04/04/2017
RPI 2413
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Dado oficial do INPI
"PREPARAÇÃO DE FLUXO COM VISCOSIDADE DINÂMICA AUMENTADA CONTENDO K2ALF5 DESIDRATADO, MÉTODO PARA A PRODUÇÃO DO MESMO E MÉTODO PARA O USO DO MESMO."
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · EP2010069994
Dados do pedido
Número
112012015169Tipo
Patente de Invenção
Depósito
16/12/2010
Publicação
29/03/2016
PCT
EP2010069994 Andamento no INPI
- Depósito16/12/10
- Publicação29/03/16
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 16/12/2010, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 04/04/2017. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Solvay Fluor Gmbh
DE
Inventores
A. O. (pessoa física)
DE
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
EP
09180229.8 · 21/12/2009
Resumo técnico
PREPARAÇÃO DE FLUXO COM VISCOSIDADE DINÂMICA AUMENTADA CONTENDO K2ALF5 DESIDRATADO, MÉTODO PARA A PRODUÇÃO DO MESMO E MÉTODO PARA O USO DO MESMO. A invenção apresenta preparações aquosas de fluxo com viscosidade dinâmica aumentada. Nas preparações de fluxo, o K2ALF5 irreversivelmente desidratado (também denominados de K2ALF5 ortorômbico ou sal de fase II) provoca o aumento da viscosidade dinâmica se as preparações aquosas de fluxo são envelhecidas, i.e., é mantido o contato entre a água contida na preparação e o K2ALF5 irreversivelmente desidratado durante um certo intervalo de tempo, de preferência, durante pelo menos doze minutos. A viscosidade maior melhora o processo de soldagem, por exemplo, porque é perdida menos preparação de fluxo que cai das partes a serem soldadas.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
07/06/2016
RPI 2370
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
29/03/2016
RPI 2360
Alteração de dados cadastrais
#1.1
11/12/2012
RPI 2188
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