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Dado oficial do INPI

DISPOSITIVO E UTILIZAÇÃO DE UM DISPOSITIVO DE TRATAMENTO DE SUPERFÍCIE DE UM SUBSTRATO POR DESCARGA COM BARREIRA DIELÉTRICA E UM PROCESSO PARA O DEPÓSITO DE UMA CAMADA SOBRE UM SUBSTRATO INORGÂNICO

ExtintaPatente de InvençãoPCT · EP2010068049

Dados do pedido

Número

112012012496

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

23/11/2010

Publicação

12/04/2016

PCT

EP2010068049

Andamento no INPI

  1. Depósito23/11/10
  2. Publicação12/04/16
  3. Exame
  4. Deferimento09/06/20
  5. Concessão17/11/20
  6. Extinto09/01/24

Patente concedida em 17/11/2020 e depois extinta em 09/01/2024. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 09/01/2024. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

A. E. (pessoa física)

BE

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Inventores

E. M. (pessoa física)

BE

E. T. (pessoa física)

BE

J. L. (pessoa física)

BE

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

EP

09176940.6 · 24/11/2009

EP

10153448.5 · 12/02/2010

Resumo técnico

PROCESSO E DISPOSITIVO DE POLARIZAÃÃO DE UM ELETRODO DBD.A invenção se refere a um dispositivo de tratamento de superfície de um substrato por descarga com barreira dielétrica, permitindo a geração de plasma filamentar, compreendendo uma câmara de reação, que comporta uma mistura, cuja composição é tal que, em contato com o plasma, se decompões e engendra espécies aptas a se depositarem em camada em grande parte ou na totalidade sobre o substrato, câmara na qual são colocados pelo menis dois eletrodos, dos quais um é levado à alta tensão AC, disposta de ambos os lados do substrato, pelo menos uma barreira dielétrica (DBD) colocada entre pelo menos esses dois eletrodos, e um transformador THT/HF, que comporta um circuito secundário, no qual uma fonte de corrente contínua (DC) é intercalada em série no circuito secundário, de forma tal que espécies químicas geradas no plasma sob formas de íons eletricamente positivos ou negativos sejam seletivamente atraídas pelo substrato alvo, o qual é introduzido na câmara de reação e colocado entre pelo menos os dois eletrodos, e empurrados pelos eletrodos de carga correspondente.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2750 de 19-09-2023 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

09/01/2024

RPI 2766

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 13ª anuidade.

19/09/2023

RPI 2750

Concessão da patente

#16.1

20 (vinte) anos contados a partir de 23/11/2010, observadas as condições legais

17/11/2020

RPI 2602

Deferimento

#9.1

09/06/2020

RPI 2579

Exigência preliminar

#6.21

26/11/2019

RPI 2551

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

08/01/2019

RPI 2505

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

12/04/2016

RPI 2362

Alteração de dados cadastrais

#1.1

07/01/2014

RPI 2244

Monitoramento de patentes

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