Dados do pedido
Número
112012007921Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2010052107 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 21/01/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC
US
Inventores
D. C. (pessoa física)
US
H. G. (pessoa física)
DE
H. M. (pessoa física)
DE
J. E. (pessoa física)
DE
K. H. (pessoa física)
US
M. K. (pessoa física)
DE
M. W. (pessoa física)
DE
M. T. (pessoa física)
US
P. A. (pessoa física)
US
P. W. (pessoa física)
DE
S. S. (pessoa física)
US
T. L. (pessoa física)
DE
W. K. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
61/250,024 · 09/10/2009
Resumo técnico
PROCESSO CONTÃNUO, EM FASE GASOSA, VIA RADICAIS LIVRES PARA A PRODUÃÃO DE PROPENOS E ALCENOS SUPERIORES CLORADOS OU FLUORADOS, PROCESSO PARA PREPARAR UM PRODUTO A JUSANTE E PROCESSO PARA PREPARAR 2,3,3,3-TETRAFLÃOR-PROP-1-ENO (HFO-1234yf) OU 1,3,3,3-TETRAFLÃOR-PROP-1-ENO (HFO-1234ze).A presente invenção provê processos contÃnuos, em fase gasosa, via radicais livres para a produção de propenos ou alcenos superiores clorados e/ou fluorados, a partir da reação de alcanos clorados e/ou fluorados e de alcenos clorados e/ou fluorados, sendo que pelo menos uma por¢ao de quaisquer subprodutos intermediários de caldeira gerados pelo processo são removidos do processo.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2543 de 01-10-2019 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
21/01/2020
RPI 2559
#8.6
01/10/2019
RPI 2543
#1.3
Publicação automática código 1.3 conforme Comunicado RPI 2542, de 24/9/2019.
24/09/2019
RPI 2542
#1.1
27/11/2012
RPI 2186
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