Adição na publicação
#15.35
07/12/2021
RPI 2657
Dados do pedido
Número
112012005397Tipo
Depósito
Publicação
PCT
JP2010006157 Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 07/12/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
K. S. (pessoa física)
JP
Inventores
H. T. (pessoa física)
JP
T. O. (pessoa física)
JP
T. S. (pessoa física)
JP
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
2009-243215 · 22/10/2009
Resumo técnico
APARELHO DE DEPOSIÇÃO QUÍMICA EM FASE VAPOR (CVD)Um aparelho de CVD (1) é dotado de: uma pluralidade de unidaedes de câmara de depósito (6) que compreende cada, um rolete de depósito (2, 2) conectado a uma fonte de energia de plasma e uma câmara de unidade para depósito (6) alojando o rolete de depósito (2, 2), e são dispostos de tal modo que os roletes de depósito (2, 2) formem uma linha em uma direção horizontal; e uma unidade de câmara de conexão (7) que compreende uma câmara de unidade para conexão (70) acoplada à câmara de unidade para depósito (60) da unidade de câmara de depósito (6) e disposta entre as unidades de câmara de depósito adjacentes (6) para conectar as unidades de câmara de depósito (6). Um substrato (W) é transferido enquanto sendo rolado em torno dos respectivos roletes de depósito (2, 2) das respectivas unidades de câmara de depósito (6), e as unidades de câmara de depósito (6) decompõem gás de fonte por plasma gerado prómixo aos roletes de depósito (2, 2) para executar processamento de depósito no substrato nos roletes de depósito (2, 2).
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#15.35
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