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Dado oficial do INPI

MATERIAL DE MATRIZ DE BASE DE ALUMÍNIO PARA ESTAMPADORA, MATRIZ DE BASE DE ALUMÍNIO PARA ESTAMPADORA E ESTAMPADORA

IndeferidaPatente de InvençãoPCT · JP2010065613

Dados do pedido

Número

112012005203

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

10/09/2010

Publicação

08/03/2016

PCT

JP2010065613

Andamento no INPI

  1. Depósito10/09/10
  2. Publicação08/03/16
  3. Exame
  4. Indeferido27/11/18
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido indeferido em 27/11/2018 e o recurso não mudou a decisão. A invenção não chegou a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 27/11/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

M. C. (pessoa física)

JP

MITSUBISHI RAYON CO., LTD.

JP

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

H. K. (pessoa física)

JP

H. I. (pessoa física)

JP

K. S. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Prioridades unionistas

JP

20090-210054 · 11/09/2009

Resumo técnico

MATERIAL DE MATRIZ DE BASE DE ALUMÃNIO PARA ESTAMPADORA, MATRIZ DE BASE DE ALUMÃNIO PARA ESTAMPADORA E ESTAMPADORA.A presente invenção refere-se a um material de base de alumínio para uma estampadora tendo uma composição de componente que contém 0,5% em peso a 3,0% em peso de Mg, a quantidade total de outros elementos diferentes de Mg, incluindo as impurezas inevitáveis, é de 500 ppm ou menos, e o restante é constituído por AI, e uma estrutura forjada em que o tamanho médio de grão de cristal é 1.000 (Mi)m m ou menos e a proporção da área de superfície de partículas de segunda fase é de 0,10% ou menos. De acordo com o presente pedido, uma estampadora pode ser fornecida na qual, juntamente com o tamanho de grão de cristal do alumínio a ser refinado, a formação de partículas de segunda fase é inibida, as irregularidades de superfície espelhada atribuíveis ao polimento de superfície são reduzidas, e um padrão de relevo uniforme é formado por tratamento de oxidação anódica.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Indeferimento mantido em recurso

#9.2.4

MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL

27/11/2018

RPI 2499

Indeferimento

#9.2

11/09/2018

RPI 2488

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

14/02/2018

RPI 2458

Alteração de sede deferida

#25.7

29/08/2017

RPI 2434

Alteração de nome deferida

#25.4

15/08/2017

RPI 2432

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

08/03/2016

RPI 2357

Alteração de dados cadastrais

#1.1

06/11/2012

RPI 2183

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