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Dado oficial do INPI

Massa de moldar à base de uma copoliamida contendo unidades de ácido tereftálico e trimetil-hexametilenodiamina, peça moldada, película, filamento, e material de compósito de fibras

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · EP2010059809

Dados do pedido

Número

112012000509

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

08/07/2010

Publicação

16/02/2016

PCT

EP2010059809

Andamento no INPI

  1. Depósito08/07/10
  2. Publicação16/02/16
  3. Exame
  4. Deferimento28/05/19
  5. Concessão16/07/19
  6. Extinto26/05/26

Patente concedida em 16/07/2019 e depois extinta em 26/05/2026. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 26/05/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

EVONIK DEGUSSA GMBH

DE

EVONIK OPERATIONS GMBH

DE

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Inventores

A. P. (pessoa física)

DE

F. B. (pessoa física)

DE

H. H. (pessoa física)

DE

M. R. (pessoa física)

DE

Dados técnicos

Prioridades unionistas

DE

10 2009 027 611.4 · 10/07/2009

Resumo técnico

MASSA DE MOLDAR à BASE DE UMA COPOLIAMIDA CONTENDO UNIDADES DE ÃCIDO TEREFTÃLICO BEM COMO TRIMETlL-HEXAMETlLENODlAMINA. A presente invenção refere-se a uma massa de moldar, que contém pelo menos 30% em peso, de uma copoliamida, que deriva dos seguintes monômeros: a) em 50 a 95% em mol da combinação de uma diamina, selecionada do grupo 1,9-nonanodiamina, 1,10-decanodiamina, 1,11-unde-canodiamina e 1,12-dodecanodiamina, bem como de ácido tereftálico e b) 10 em 5 a 50% em mol da combinação de uma diamina, selecionada do grupo 2,2,4-trimetil-hexametilenodiamina, 2,4,4-trimetil-hexametilenodiamina e misturas dessas, bem como ácido tereftálico, é cristalina e apresenta uma baixa absorção de água.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 16ª anuidade.

26/05/2026

RPI 2890

Alteração de nome deferida

#25.4

12/05/2020

RPI 2575

Concessão da patente

#16.1

20 (vinte) anos contados a partir de 08/07/2010, observadas as condições legais

16/07/2019

RPI 2532

Deferimento

#9.1

28/05/2019

RPI 2525

6.20

05/02/2019

RPI 2509

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

10/04/2018

RPI 2466

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

16/02/2016

RPI 2354

Alteração de dados cadastrais

#1.1

30/10/2012

RPI 2182

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